맞춤기술찾기

이전대상기술

파장주사 층밀리기 간섭계를 이용한 자유곡면의 삼차원 형상 측정 장치

  • 기술번호 : KST2015180320
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 프로파일 측정 방법 및 3차원 프로파일 측정 장치를 제공한다. 이 3차원 프로파일 측정 방법은 측정 대상이 제공하는 측정파를 분할하여 형성된 기준파와 상기 기준파와 소정의 층밀림(lateral shear)을 가지는 층밀림파(lateral shear wave)의 간섭신호를 파장에 따라 생성하는 단계; 및 파장에 따른 상기 간섭 신호를 위치별로 처리하여 상기 기준파와 상기 층밀림파의 광경로 차이(optical path difference)를 산출하는 단계;를 포함한다.
Int. CL G01B 11/24 (2006.01) G01B 9/02 (2006.01)
CPC G01B 11/24(2013.01) G01B 11/24(2013.01) G01B 11/24(2013.01)
출원번호/일자 1020140049111 (2014.04.24)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-1554205-0000 (2015.09.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150918) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.04.24)
심사청구항수 2

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김영식 대한민국 세종특별자치시 누
2 이혁교 대한민국 대전광역시 유성구
3 이주형 대한민국 대전광역시 유성구
4 양호순 대한민국 대전광역시 유성구
5 이윤우 대한민국 대전광역시 서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0390055-78
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.12.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.01.09 수리 (Accepted) 9-1-2015-0001239-47
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0191773-55
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0497915-94
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.05.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0497911-12
7 등록결정서
Decision to grant
2015.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0567827-96
8 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2017-0892455-72
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
측정 대상이 제공하는 측정파를 분할하여 형성된 기준파와 상기 기준파와 소정의 층밀림(lateral shear)을 가지는 층밀림파(lateral shear wave)의 간섭신호를 파장에 따라 생성하는 단계; 및파장에 따른 상기 간섭 신호를 위치별로 처리하여 상기 기준파와 상기 층밀림파의 광경로 차이(optical path difference)를 산출하는 단계;를 포함하고,측정 대상이 제공하는 측정파를 분할하여 형성된 기준파와 상기 기준파와 소정의 층밀림(lateral shear)을 가지는 층밀림파(lateral shear wave)의 간섭신호를 파장에 따라 생성하는 단계는:이중 주파수 격자(double frequency grating)를 이용하여 상기 기준파와 상기 기준파의 소정의 층밀림을 가지는 상기 층밀림파를 생성하는 것을 특징으로 하는 3차원 프로파일 측정 방법
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
삭제
20 20
삭제
21 21
삭제
22 22
삭제
23 23
삭제
24 24
삭제
25 25
파장 가변 레이저 광원;상기 파장 가변 레이저 광원의 출력광을 측정 대상에 제공하고 측정 대상에서 반사된 측정파를 층밀리기 간섭계에 제공하는 광전달부;상기 광전달부로부터 상기 측정파를 제공받아 기준파와 상기 기준파에 일정한 층밀림을 가지는 층밀림파를 생성하고 상기 기준파와 상기 층밀림파를 결합하여 간섭 패턴을 생성하는 상기 층밀리기 간섭계; 및상기 간섭 패턴을 측정하는 2차원 광센서; 를 포함하고,상기 층밀리기 간섭계는:상기 측정파를 집속하는 집속 렌즈;상기 집속 렌즈에 의하여 집속된 상기 측정파를 회절시키어 기준파와 층밀림파를 생성하는 이중 주파수 격자(double frequency grating); 및상기 이중 주파수 격자에 의하여 회절된 상기 기준파와 상기 층밀림파를 평행광으로 변환하는 시준 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 프로파일 측정 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국생산기술연구원 산업기술혁신개발사업 회절광학소자용 700nm급 이하의 미세패턴 가공을 위한 절삭가공공정 원천기술 개발