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레이저 주사 방식에서 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치에 있어서, 레이저 광을 발생시키는 레이저 발생부;발생된 상기 레이저광을 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P 파로 편광시키는 편광판;상기 편광판을 투과한 상기 S파 및 상기 P파가 입사되어, 상기 S파는 반사시키고, 상기 P파는 통과시키는 편광빔 스플리터;상기 편광빔 스플리터에 의해 반사된 상기 S파와 통과된 상기 P파의 경로 각각에 설치되어 편광방향을 45° 만큼 변환시키는 쿼터 파장판;상기 퀴터 파장판에 의해 45°만큼 편광방향이 변환된 광 경로 각각에 설치되어 상기 변환된 광을 반사시켜 상기 퀴터 파장판에 투과시켜 상기 편광빔 스플리터에 다시 입사시키는 미러;상기 미러 중 어느 하나는 각도변환미러로 구성되고, 상기 각도변환미러를 수평면과 평행한 X축을 중심으로 회전시키는 X축 회전 구동부와 상기 각도변환미러를 수직축인 Z축을 중심으로 회전시키는 Z축 회전 구동부를 구비하는 미러 각도변환부;상기 미러에 반사된 광과 상기 각도변환미러에 반사된 광이 서로 미세간격으로 이격되어 상기 편광 빔스플리터에서 출사되고, 서로 미세간격으로 이격된 광의 편광방향을 서로 일치시키는 검광기;상기 검광기에 의해 편광방향이 일치된 상기 광을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 주사시키는 노광렌즈;내부에 상기 편광판, 상기 퀴터 파장판, 상기 미러, 상기 각도변환미러, 상기 미러각도변환부, 상기 검광기 및 상기 노광렌즈가 설치되는 노광헤드;상기 노광헤드를 상기 X축 방향으로 이동시키는 X스테이지;상기 기판이 설치되는 기판 설치부; 및상기 기판설치부를 상기 Y축 방향으로 이동시키는 Y 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 6 항에 있어서, 상기 노광렌즈를 투과한 광은 서로 간섭되어 특정 간섭무늬 방향을 갖는 간섭 레이저 광으로 형성되어 상기 감광막에 주사되는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 7 항에 있어서, 상기 X축 회전 구동부에 의해 상기 각도변환미러가 상기 X축을 중심으로 소정각도로 회전된 경우 상기 간섭 무늬 방향과, 상기 Z축 회전 구동부에 의해 상기 각도변환미러가 상기 Z축을 중심으로 소정각도로 회전된 경우 상기 간섭 무늬 방향은 서로 수직인 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 7 항에 있어서, 상기 간섭무늬 방향이 상기 노광헤드의 상대적 진행방향과 일치되도록 상기 X축 회전 구동부, 상기 Z축 회전 구동부, 상기 X 스테이지 및 상기 Y 스테이지를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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레이저 주사 방식에서 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치에 있어서, 레이저 광을 발생시키는 레이저 발생부;발생된 상기 레이저광을 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P 파로 편광시키는 편광판;상기 편광판에 의해 편광된 상기 S파 및 상기 P파 중 적어도 하나를 특정방향으로 굴절시켜, 상기 S파 및 상기 P파가 미세간격으로 이격되게 경로를 분리하여 출사시키는 복굴절판;상기 복굴절판에 의해 경로가 분리된 상기 S파와 상기 P파의 편광방향을 일치시키는 검광기;상기 복굴절판을 수평면과 평행하고, 상기 편광판에 입사되는 상기 레이저광의 입사방향과 일치하는 Y축을 중심으로 회전시켜 상기 특정방향을 변화시키는 복굴절판 각도변환부; 상기 검광기에 의해 편광방향이 일치된 광을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 주사시키는 노광렌즈;내부에 상기 편광판, 상기 복굴절판, 상기 검광기 및 상기 노광렌즈가 설치되는 노광헤드;상기 노광헤드를 X축 방향으로 이동시키는 X스테이지;상기 기판이 설치되는 기판 설치부; 및상기 기판설치부를 상기 Y축 방향으로 이동시키는 Y 스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 10 항에 있어서,상기 노광렌즈를 투과한 상기 광은 서로 간섭되어 특정 간섭무늬 방향을 갖는 간섭 레이저 광으로 형성되어 상기 감광막에 주사되는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 11 항에 있어서, 상기 복굴절판 각도변환부에 의해 상기 복굴절판이 상기 Y축을 중심으로 회전 되는 경우, 상기 간섭무늬방향이 변화되는 것을 특징으로 하는 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 12 항에 있어서, 상기 간섭무늬방향이 상기 노광렌즈의 상대적 진행방향과 일치되도록 상기 복굴절판 각도변환부, 상기 X 스테이지 및 상기 Y 스테이지를 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 6 항 또는 제10 항에 있어서,상기 노광렌즈와 상기 검광기 사이에 구비되어, 각도 변환이 가능하고, 상기 편광방향이 일치된 상기 P파 및 상기 S파의 경로를 변화시켜, 상기 간섭 레이저광을 상기 감광막에 수직으로 주사시키도록 하는 틸트미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 6 항 또는 제 11 항에 있어서,상기 기판설치부를 수직축인 Z축 중심으로 회전시키는 회전 스테이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 6 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 노광렌즈와 상기 감광막 사이의 간격을 조절하여 상기 노광렌즈의 초점을 조절하는 초점조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조장치
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제 6 항의 제조장치를 이용한 미세 패턴 제조방법에 있어서,레이저 발생부에서 발생된 레이저 광이 편광판에 투과되어 서로 수직인 편광방향을 갖는 S파와 P파로 편광되는 단계;상기 S파와 상기 P파가 편광빔스플리터에 입사되어 상기 S파는 반사되고, 상기 P파는 투과되어 경로가 분리되는 단계;반사된 상기 S파와 투과된 상기 P파 각각이 퀴터 파장판에 투과되고, 미러에 반사되어 다시 상기 퀴터 파장판에 투과되어 상기 편광빔스플리터에 입사되는 단계;상기 P파와 상기 S파가 미세 간격으로 이격되어 상기 편광빔스플리터에서 출사되고, 검광기에 투과되어 상기 P파와 상기 S파의 편광방향이 일치되는 단계;편광방향이 일치된 광이 노광렌즈에 투과되는 단계;투과된 상기 S파와 상기 P파가 서로 간섭되어 특정 간섭무늬방향을 갖는 간섭레이저광으로 형성되어 기판에 코팅된 감광막에 주사되는 단계;상기 간섭레이저 광이 주사된 감광막의 물성이 변형되는 단계; 및상기 간섭레이저 광이 주사되지 않은 감광막을 제거하여 미세패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조방법
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제 20 항에 있어서, 상기 입사 단계에서, 상기 미러 중 어느 하나는 각도변환미러로 구성되고, X축 회전 구동부에 의해 상기 각도변환미러가 수평면과 평행한 X축을 중심으로 소정각도로 회전하는 단계 및 상기 Z축 회전 구동부에 의해 상기 각도변환미러가 수직축인 Z축을 중심으로 소정각도로 회전하는 단계 중 적어도 어느 하나를 더 포함하고, 상기 주사단계에서, 제어부가 X 스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 노광렌즈를 X축 방향으로 이동시키는 단계 및 Y스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 기판이 설치된 기판설치부를 Y축 방향으로 이동시키는 단계 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조방법
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제 21 항에서, 제어부가 상기 간섭무늬 방향이 상기 노광렌즈의 상대적 진행방향과 일치되도록 상기 X축 회전 구동부, 상기 Z축 회전 구동부, 상기 X 스테이지 및 상기 Y 스테이지를 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조방법
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제 10 항의 제조장치를 이용한 미세패턴 제조방법에 있어서, 레이저 발생부에서 발생된 레이저 광이 편광판에 투과되어 서로 수직인 편광방향을 갖는 S파와 P파로 편광되는 단계; 상기 S파와 상기 P파가 복굴절판에 입사되어, 상기 S파와 상기 P파 중 어느 하나가 특정방향으로 굴절되어 서로 미세 간격으로 이격되어 경로가 분리되는 단계;경로가 분리된 상기 S파와 상기 P파가 검광기에 투과되어 편광방향이 일치되는 단계;편광방향이 일치된 광이 노광렌즈에 투과되는 단계;투과된 상기 광이 서로 간섭되어 특정 간섭무늬방향을 갖는 간섭레이저광이 형성되어 기판에 코팅된 감광막에 주사되는 단계;상기 간섭무늬방향을 변환할 필요가 있는 경우, 복굴절판 각도변환부가 상기 복굴절판을 수평면과 평행하고, 상기 편광판에 입사되는 상기 레이저광의 입사방향과 일치하는 Y축을 중심으로 90°회전시키는 단계; 상기 간섭레이저 광이 주사된 감광막의 물성이 변형되는 단계; 및상기 간섭레이저 광이 주사되지 않은 감광막을 제거하여 미세패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조방법
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제 23 항에 있어서, 상기 주사단계 및 상기 회전 단계에서,제어부가 X 스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 노광헤드를 X축 방향으로 이동시키는 단계 및 Y스테이지를 구동하여 이동속도를 조절하며 상기 기판이 설치된 기판설치부를 Y축 방향으로 이동시키는 단계 중 적어도 어느 하나를 더 포함하고, 제어부가 상기 간섭무늬방향이 상기 노광렌즈의 상대적 진행방향과 일치되도록 상기 복굴절판 각도변환부, 상기 X 스테이지 및 상기 Y 스테이지를 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 간섭 무늬방향의 변환이 가능한 미세 패턴 제조방법
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