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막여과 대상수에 자성체분말과 응집제를 주입하여 자화된 플록을 형성하는 전처리공정,
상기 전처리공정을 거친 막여과 대상수를 막여과 공정에 유입하여 막여과 공정에 장착된 자석을 이용하여 자화된 플록을 제거하고 자화된 플록이 제거된 막여과 대상수는 막에 여과됨에 특징이 있는 막여과 수처리 방법에 있어서,
전처리공정에 응집보조제를 더 주입하고,
상기 전처리공정에서 응집제와 응집보조제를 주입하여 혼화하는 방법은 교반기식, 수류식 또는 펌프확산방식이며,
막모듈은 중공사형, 평판형, 나권형, 관형 또는 침지형 막 모듈이며,
막여과 공정에 장착된 자석은 막여과장치의 '막여과장치내부', '막모듈내부' 또는 '막여과장치내부와 막모듈내부'에 위치하고,
상기 자석은 전자석형 또는 영구자석형인 것에 특징이 있는 막여과 수처리방법
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제2항에 있어서,
전처리공정은 자성체분말주입교반공정과 응집제주입혼화공정으로 구분되고,
자성체분말은 산화철 폐촉매, 마그네타이트, 자철광 분말을 단독으로 또는 혼합하여 사용하고, 응집제는 황산알루미늄(Al2(SO4)3), 폴리염화알루미늄(PAC), 황산제1철, 황산제2철, 염화제2철, 칼륨명반, 알루민산나트륨, 암모늄명반, 염화코퍼러스, 페록(상품명), 점토, 수산화칼슘, 산화칼슘, 활성규산 등의 무기응집제와 고분자응집제, 양이온 계면활성제, 음이온 계면활성제 등의 유기응집제를 단독으로 또는 2이상을 사용하고, 응집보조제는 산, 알카리, 활성규사, POLYELECTROLYTES, 점토 등을 단독으로 또는 2 이상을 사용하며,
막의 역세척시에는 전자석의 경우는 자력을 일시적으로 소멸시키고 영구자석의 경우는 구동수단으로 고속 회전시켜 자석에 부착된 플록을 제거하는 공정에 특징이 있는 막여과 수처리 방법
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막여과 장치 내부에 자석을 위치시키고,
자성체분말과 응집제를 주입하고 선택적으로 응집보조제를 주입하고 교반하여 자화된 플록을 형성하는 전처리공정을 거친 막여과 대상수를 막여과 장치로 유입하여 상기 자석에 의해 자화된 플록을 제거함에 특징이 있는 막여과 장치에 있어서,
막여과 장치는 막모듈이 중공사형, 평판형, 나권형, 관형 또는 침지형 막 모듈인 막여과장치이며,
자석은 상기 막여과 장치의 '막여과장치내부', '막모듈내부' 또는 '막여과장치내부와 막모듈내부'에 위치하고,
상기 자석은 전자석형 또는 영구자석형인 것에 특징이 있는 막여과 장치
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제5항에 있어서,
영구자석형 자석은 자석에 구동수단이 결합된 영구자석인 것에 특징이 있는 막여과 장치
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