| 1 |
1
(1) 반응기에서 알코올과 이산화티탄 전구체를 혼합하여 이산화티탄 용액을 제조하는 제1단계;(2) 상기 제1단계를 통하여 얻어진 이산화티탄 용액에 산 용액과 불소를 포함한 화합물을 용해시킨 용액을 첨가하는 제2단계;(3) 반응기에 불소가스 또는 불소가스와 비활성가스의 혼합가스를 버블(bubble) 주입식으로 주입시켜 상기 제2단계를 통하여 얻어진 혼합물 용액과 불소가스를 반응시키는 제3단계;(4) 제3단계를 통하여 얻어진 혼합물 용액에 열을 가하여 겔화 반응을 시키는 제4단계; 및 (5) 제4단계의 과정을 통하여 얻어진 물질을 열처리하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1단계에서 혼합되는 알코올과 이산화티탄 전구체의 혼합비율은 알코올 100 중량부를 기준으로 이산화티탄 전구체 10 내지 50 중량부인 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 이산화티탄 전구체는 티타늄 에톡사이드, 티타늄 이소프로폭사이드, 티타늄 프로폭사이드, 티타늄 부톡사이드, 티타늄 테트라에톡사이드, 티타늄 테트라이소프로폭사이드, 티타늄 테트라부톡사이드, 티타늄 클로라이드, 티타늄 다이클로라이드, 티타늄 트리클로라이드, 티타늄 테트라클로라이드, 티타늄 브로마이드, 티타늄 설파이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 제2단계에서 첨가되는 불소를 포함한 화합물을 용해시킨 용액의 농도는 0
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 제2단계를 통하여 얻어진 혼합물 용액의 pH는 5보다 작은 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 제3단계에서 버블(bubble) 주입식으로 반응기에 주입되는 불소가스는 상기 제2단계를 통하여 얻어진 혼합물 용액의 부피 100을 기준으로 분당 10 내지 100의 부피로 주입되는 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 제3단계에서 이루어지는 상기 제2단계를 통하여 얻어진 혼합물 용액과 불소가스의 반응은 0
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 제3단계에서 버블(bubble) 주입식으로 반응기에 주입되는 불소가스는 불소(F2), 삼화불화질소(NF3), 사불화탄소(CF4), 삼불화탄소(CHF3), 팔불화삼탄소(C3F8), 팔불화사탄소(C4F8) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,제4단계에서 이루어지는 겔화 반응은 30 내지 100℃의 온도범위에서 1 내지 24시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 제5단계에서 이루어지는 열처리는 200 내지 800℃의 온도범위에서 1 내지 3시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 가시광 응답형 이산화티탄 광촉매의 제조방법
|
| 11 |
11
삭제
|
