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1) 지지체에 전이금속 전구체를 비가역적으로 흡착시키는 단계;2) 상기 전이금속 전구체를 환원하여 상기 지지체의 적어도 일부의 표면이 환원된 전이금속을 포함하도록 상기 지지체내 전이금속 전구체를 환원하는 단계;3) 일산화탄소를 상기 지지체의 표면보다 상기 지지체내 환원된 전이금속의 표면에 더 높은 농도로 흡착시키는 단계; 4) 상기 일산화탄소가 흡착된 전이금속을 포함하는 지지체에 전이금속 전구체를 비가역적으로 2차 흡착시킴으로써, 전이금속 전구체가 지지체내 일산화탄소가 흡착된 전이금속의 표면보다 지지체의 표면상으로 흡착되도록 하는 단계; 및5) 상기 지지체의 표면에 흡착된 전이금속 전구체를 환원시키는 단계;를 포함하는 전이금속 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 지지체는 전이금속, 세라믹, 실리카, 실리콘 기판, 알루미나, 카본 및 코어-쉘 형태의 나노입자로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 지지체는 금, 은 및 구리로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전이금속은 백금, 팔라듐, 로듐 및 이리듐로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 귀금속인 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 3) 내지 5)단계를 2 내지 7회 중에서 선택된 어느 하나의 횟수만큼 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 일산화탄소를 상기 지지체의 표면보다 상기 지지체내 환원된 전이금속의 표면에 더 높은 농도로 흡착시키는 단계는 지지체에 일산화탄소가 흡착되는 정도보다 전이금속에 일산화탄소가 흡착되는 정도가 더 강한 전이금속을 선택함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 지지체에 전이금속 전구체를 비가역적으로 흡착시키는 방법은 0
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제1항에 있어서,상기 지지체에 전이금속 전구체를 환원하는 단계는 전기화학적 환원을 이용하는 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막의 제조방법
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 제조방법에 의해 얻어지는, 전이금속 박막을 포함하는 지지체
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제9항에 있어서,상기 전이금속 박막의 두께는 2개 또는 3개의 원자층을 포함하는 초박막(ultra-thin film)의 형태인 것을 특징으로 하는, 전이금속 박막을 포함하는 지지체
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