| 1 |
1
은 코팅 구리분말입자의 제조방법에 있어서,
구리분말로부터 구리산화막을 제거하기 위해 산화막제거제인 (NH4)2SO4와 NH4OH를 구리분말과 증류수가 장입된 반응조에 첨가한 후 교반시키는 산화막 제거 단계와 ;
이후 환원제인 아스코빅산(ascobic acid)을 첨가하고, 질산은 용액 및 은의 착물형성제인 암모니아용액을 주입속도를 조절하면서 첨가하여 암모니아 은 착물이 아스코빅산과 반응하여 환원되는 단계; 및
환원반응된 고체입자를 증류수와 함께 원심분리기에서 고액분리하여 고체입자를 회수하고, 회수한 고체입자를 건조하는 단계:를 거쳐 제조되는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 2 |
2
청구항 1에 있어서,
상기 구리분말의 양은 전체 혼합용액 1000 ㎖ 당 5-50 g을 첨가하는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 3 |
3
청구항 1에 있어서,
상기 산화막 제거제인 (NH4)2SO4와 NH4OH의 혼합비율은 전체 혼합용액 1000 ㎖ 기준으로 (NH4)2SO4 0
|
| 4 |
4
청구항 1에 있어서,
상기 산화막제거제와 구리분말과의 반응시간은 5-20분인 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 5 |
5
청구항 1에 있어서,
상기 첨가되는 환원제인 아스코빅산의 첨가량은 전체 혼합용액 1000 ㎖ 기준으로 1-40 g을 첨가하는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 6 |
6
청구항 1에 있어서,
상기 연속식으로 첨가되는 질산은 및 암모니아 용액은 전체 혼합용액 1000 ㎖ 기준으로 분당 0
|
| 7 |
7
청구항 1에 있어서,
상기 반응조는 은이온 용액 주입속도를 조절할 수 있는 반회분식 항온반응조를 사용하는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 8 |
8
청구항 7에 있어서,
상기 반회분식 항온반응조는 20 ~60 ℃의 반응온도에서 200-800 rpm의 속도로 교반하는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 9 |
9
청구항 1에 있어서,
상기 구리분말 입자 크기는 1
|
| 10 |
10
청구항 1에 있어서,
상기 고체입자를 건조하는 단계는 진공오븐에서 40 ~ 60℃의 온도로 24시간 건조하는 것을 특징으로 하는 무전해도금법에 의한 은 코팅 구리분말을 제조하는 방법
|
| 11 |
11
상기 청구항 1 내지 10항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조된, 입자의 크기가 2
|
