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1) 직경 Φ20mm 이상 Φ100mm 이하의 스틸컴팩션 몰드를 이용하여 1
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제1항에 있어서, 상기 고융점 금속은 텅스텐(W), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 니오븀(Nb), 지르코늄(Zr), 하프늄(Hf), 티탄(Ti) 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 금속인 것을 특징으로 하는 고융점 금속 봉상형 잉곳의 제조방법
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1) 직경 Φ20mm 이상 Φ100mm 이하의 스틸컴팩션 몰드를 이용하여 1
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제3항에 있어서, 상기 2) 단계의 용해는 3회 내지 5회 반복되는 것을 특징으로 하는 탄탈륨 봉상형 잉곳의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 주 전자빔은 크리스탈라이저의 용융풀을 연속적으로 용해하고, 보조 전자빔은 탄탈륨 바 피더를 용해하여 액적을 크리스탈라이저로 떨어뜨리는 것을 특징으로 하는 탄탈륨 봉상형 잉곳의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 전자빔 용해는 40kW이상 60kW 이하의 파워로 탄탈륨 시드를 제조한 후 파워를 60kW이상 80kW이하까지 증가시켜 전자빔 드립 용해를 수행하는 것을 특징으로 하는 탄탈륨 봉상형 잉곳의 제조방법
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제3항 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 탄탈륨 봉상형 잉곳은 99
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11
제3항 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 탈탈륨 봉상형 잉곳은 스퍼터링 타겟용인 것을 특징으로 하는 탄탈륨 봉상형 잉곳의 제조방법
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제3항 및 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 Φ40 × 100mm 이상 Φ100 × 1000mm 이하 직경 및 99
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