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석회석 원광을 1차 파쇄하여 파쇄물로 형성하는 단계;상기 파쇄물을 2차 파쇄하여 분말시료로 형성하는 단계;상기 분말시료를 용액에 현탁시켜 광액을 형성하고 마광하는 단계; 및상기 광액에 기포제와 치오포스페이트류, 잔세이트류, 디치오포스페이트류 및 디치오포스페이트류와 치노카바메이트류의 혼합물 중 어느 하나를 사용하는 포집제를 주입한 후, 상기 석회석에 포함된 석영, 황철석, 산화물 및 운모류 중 어느 하나 이상을 포함하는 착색불순물을 제거하기 위하여 부유선별하는 단계를 포함하는 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서, 상기 2차 파쇄는 볼 밀(ball mill) 또는 롯드 밀(rod mill)을 이용하는 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서,상기 마광으로 형성된 상기 광액내의 미립자의 최대 입도는 65 mesh 내지 150 mesh인 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서,상기 마광은 자밀(jar mill)을 이용하여 임계속도의 60% 내지 80%의 회전속도에서 진행하는 석회석의 정제방법
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제4항에 있어서,상기 자밀은 볼 장입량이 40% 내지 60%인 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서,상기 광액의 농도는 40% 내지 60%인 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서,상기 기포제는 파인오일 또는 메틸이소부틸카비놀을 사용하는 석회석의 정제방법
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제1항에 있어서,상기 원광은 CaCO3 성분을 45%이상 포함하고 있는 석회석의 정제방법
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제 1항에 있어서,상기 부유선별하는 단계를 거쳐 정제된 상기 석회석을 초미분쇄 장치를 이용하여 최대 입도 10㎛ 이하로 미분쇄하는 단계를 더 포함하는 석회석의 정제방법
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