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비트맵 이미지를 이용하는 하이퍼볼릭 패턴 생성 방법

  • 기술번호 : KST2015182122
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하이퍼볼릭 평면을 나타내는 단위원 내에 하이퍼볼릭 대칭 패턴을 생성시키는 방법에 있어서, 비트맵 이미지를 이용한 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법에 관한 것이다. 본 발명은 하이퍼볼릭 공간에서 대칭 패턴을 생성하는데 있어서, 계산 과정이 정밀하면서도 효율적인 하이퍼볼릭 대칭 패턴 생성 방법을 제공한다.
Int. CL G06T 11/00 (2006.01.01) G06T 7/60 (2017.01.01)
CPC G06T 11/001(2013.01) G06T 11/001(2013.01) G06T 11/001(2013.01)
출원번호/일자 1020030042078 (2003.06.26)
출원인 중앙대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0490296-0000 (2005.05.10)
공개번호/일자 10-2005-0001784 (2005.01.07) 문서열기
공고번호/일자 (20050524) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.06.26)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조청운 대한민국 경기도 부천시 원미구
2 홍현기 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울 동작구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2003-0230233-11
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2004-0009150-73
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2004-0009149-26
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.02.15 수리 (Accepted) 9-1-2005-0006961-10
6 등록결정서
Decision to grant
2005.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0075458-44
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.05.10 수리 (Accepted) 4-1-2005-5046131-91
8 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2005.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2005-5057681-90
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.05.10 수리 (Accepted) 4-1-2005-5046128-53
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148879-89
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148883-62
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000494-54
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2014-5123944-33
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5125629-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2019-5151122-15
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5153932-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하이퍼볼릭 평면을 나타내는 단위원 내에 하이퍼볼릭 대칭 패턴을 생성시키는 방법에 있어서, 상기 단위원 내의 임의의 화소에 대하여, 상기 화소를 포함하는 유일한 하이퍼볼릭 다각형을 구하는 단계(a); 상기 다각형 위치로 패턴을 복사하기 위한 변환행렬을 구하는 단계(b); 상기 변환행렬의 역변환행렬을 구하는 단계(c); 및 상기 역변환행렬을 이용하여, 상기 패턴 중에서, 상기 화소에 대응하는 이미지 데이터를 구하는 단계(d)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 비트맵 이미지를 이용한 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 단계(a)는, 현재 레이어의 하이퍼볼릭 다각형과, 인접하는 그의 하부 레이어의 각 하이퍼볼릭 다각형이 공유하는 각각의 에지를 원호의 일부로서 포함하는 각각의 원을 구하는 단계(f); 상기 단계(f)에서 구한 원 중에서, 어느 원도 상기 단위원 내의 임의의 화소를 포함하지 않는 경우, 상기 현재 레이어의 하이퍼볼릭 다각형이, 상기 화소를 포함하는 유일한 하이퍼볼릭 다각형으로 결정되는 단계(g); 상기 단계(f)에서 구한 원 중에서, 상기 단위원 내의 임의의 화소를 포함하는 원이 존재하는 경우, 상기 화소를 포함하는 상기 원 내부에 존재하는 하부 레이어의 하이퍼볼릭 다각형을 현재 레이어의 다각형으로 설정하는 단계(h); 및 상기 화소를 포함하는 하이퍼볼릭 다각형이 유일하게 결정될 때까지 상기 단계(f) 내지 단계(h)를 반복하는 단계(i)를 포함하는 것을 특징으로 하는 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 단계(h)는, 상기 단계(f)에서 구한 원 중에서, 상기 단위원 내의 임의의 화소를 포함하는 원이 존재하는 경우, 상기 화소를 포함하는 상기 원을 선택하는 단계(j); 상기 선택된 원 내부에 존재하는 하이퍼볼릭 다각형 중 상기 임의의 화소를 포함하는 하이퍼볼릭 다각형 및 그의 하부 레이어의 하이퍼볼릭 다각형을 선택하는 단계(k); 상기 선택된 하이퍼볼릭 다각형을 현재 레이어의 하이퍼볼릭 다각형으로 설정하는 단계(l)를 포함하는 것을 특징으로 하는 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 단계 (b)의 변환행렬은 푸앵카레(Poincare) 모델에서 정분할 [p, q] 군을 생성시키는 패턴 생성 규칙을 따르며, 상기 하이퍼볼릭 패턴은 정p각형의 각각의 꼭지점에 q개의 정p각형이 접하는 것을 특징으로 하는 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 변환행렬은, 중심의 p각형의 에지를 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 A; x축을 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 B; 단위원의 중심과, 중심의 p각형의 꼭지점을 지나는 사선을 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 C; 상기 변환행렬 C와 B의 곱인 변환행렬 D; 상기 변환행렬 A와 C의 곱인 변환행렬 E; 및 상기 변환행렬 B와 A의 곱인 변환행렬 F를 선택적으로 조합하여 이루어진 것을 특징으로 하는 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
6 5
제 4 항에 있어서, 상기 변환행렬은, 중심의 p각형의 에지를 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 A; x축을 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 B; 단위원의 중심과, 중심의 p각형의 꼭지점을 지나는 사선을 기준으로 반대편으로 반사시키는 변환행렬 C; 상기 변환행렬 C와 B의 곱인 변환행렬 D; 상기 변환행렬 A와 C의 곱인 변환행렬 E; 및 상기 변환행렬 B와 A의 곱인 변환행렬 F를 선택적으로 조합하여 이루어진 것을 특징으로 하는 하이퍼볼릭 대칭 패턴의 생성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.