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나노 패턴을 제작하기 위해 소정의 깊이를 갖는 홈 형태의 패턴을 갖는 나노 구조물이 형성된 스탬프 기판을 이용한 나노 복제 공정을 통해, 메인 기판상에 상기 나노 패턴을 형성하는 단계;상기 나노 패턴 상에 증착 공정에 의해 금속층을 형성하는 단계;를 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 나노 복제 공정은, 원통형 스탬프를 이용한 롤 나노 복제 공정인, 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 메인 기판은, 상기 나노 구조물에 접하는 패턴 형성층과,상기 패턴 형성층의 후면에 접하여 상기 패턴 형성층을 지지하는 지지 기판을 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 지지 기판은, 유리 또는 플라스틱 필름 형태인 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 나노 패턴은, 사출 성형, 핫엠보싱(hot embossing), 자외선 나노 임프린팅(UV nano imprinting), 롤 나노 임프린팅(roll nano imprinting), 유리성형 공정 중 하나의 공정에 의해 형성되는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속층은 은(Ag) 또는 금(Au)을 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속층은 상기 나노 패턴의 상부에 형성되는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 나노 패턴 형성 단계를 수행한 후, 상기 나노 패턴 상에 이산화규소(SiO2)를 포함하는 비금속층을 형성하는 단계를 더 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 비금속층은 화학적 진공 증착에 의해 형성되는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제8항 또는 제9항에 있어서,상기 비금속층은 상기 나노 패턴의 상부와 측면에 형성되는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제8항 또는 제9항에 있어서,상기 비금속층은 두께는 20 내지 250nm 인 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속층을 형성하는 단계 후,상기 금속층의 상부면 상에 회전 경사 증착 공정을 이용하여 상기 금속층의 상부면 상으로부터 상부측을 향하여 다수의 나노 로드(rod)를 형성하는 단계를 더 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 나노 로드는 금(Au)또는 은(Ag) 또는 이산화규소(SiO2)를 포함하는 형광 신호 증폭 기판 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 증착공정은 회전경사 증착공정인 것을 특징으로 하는 형광신호 증폭기판 제조방법
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제1항 내지 제9항, 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항의 형광신호 증폭기판제조방법으로 제조된 형광신호 증폭기판에 단백질 또는 DNA를 고밀도로 집적하여 제조된 DNA 및 단백질 마이크로어레이칩
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