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검출용 프로브 및 프로브형 검출 장치

  • 기술번호 : KST2015183386
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예와 관련된 검출용 프로브는 전자기파를 생성하는 광원과, 광원으로부터 입사되는 전자기파의 경로를 변경시키는 경로 변경부와, 경로 변경부에 의해 경로가 변경된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부와, 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부 및, 상기 광원, 상기 경로 변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 검출부를 내부에 구비한 하우징을 포함한다.
Int. CL G01Q 60/22 (2010.01)
CPC G01Q 60/22(2013.01) G01Q 60/22(2013.01) G01Q 60/22(2013.01)
출원번호/일자 1020130085132 (2013.07.19)
출원인 한국식품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0010852 (2015.01.29) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020160138574;
심사청구여부/일자 Y (2016.01.28)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국식품연구원 대한민국 전라북도 완주군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최성욱 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 김현정 대한민국 서울 서초구
3 이나리 대한민국 서울 구로구
4 장현주 대한민국 서울 송파구
5 옥경식 대한민국 경기 오산시 가수로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 전수진 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)
2 김종승 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)
3 윤정호 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국식품연구원 전라북도 완주군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0651154-55
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2013-0760946-22
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.13 수리 (Accepted) 4-1-2014-0008534-79
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0094367-11
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0094353-83
6 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2016.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-0379233-64
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0415408-38
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-0767585-65
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0803745-19
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.08.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0803754-19
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2016.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0678360-81
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2016-0972530-18
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.10.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0972562-79
14 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2016.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-1032835-70
15 등록결정서
Decision to grant		 2016.10.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0774322-86
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2017-5155082-90
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5135028-45
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5176835-79
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2020-5030341-61
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.04 수리 (Accepted) 4-1-2020-5124131-17
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.08 수리 (Accepted) 4-1-2020-5203003-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자기파를 생성하는 광원;판의 상부에 기계적으로 결합되고, 판에서 상기 광원쪽으로 연장되어 형성되는 몸체 및 상기 몸체의 끝면에는 상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 반사면을 포함하는 경로 변경부;상기 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 상기 경로 변경부에 이격되어 배치되어 상기 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 반사면으로부터 입사된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부;상기 광원, 상기 경로 변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 검출부를 내부에 구비한 하우징; 및상기 하우징의 내부에 배치되고, 상기 판의 하부에 기계적으로 결합되고, 회전 운동하여 상기 판을 회전시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 일체로 회전시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 회전 스캔할 수 있게 하는 경로 변경부용 구동부;를 포함하는, 검출용 프로브
2 2
전자기파를 생성하는 광원;판의 상부에 기계적으로 결합되고, 판에서 상기 광원쪽으로 연장되어 형성되는 몸체 및 상기 몸체의 끝면에는 상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 반사면을 포함하는 경로 변경부;상기 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 상기 경로 변경부에 이격되어 배치되어 상기 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 반사면으로부터 입사된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부;상기 광원 및 상기 검출부를 내부 포함하고, 제 2 하우징을 수용할 수 있는 홈과, 홈의 양측면에는 상기 제 2 하우징이 수용된 상태에서 회전할 수 있도록 하는 회전 부재를 포함하는 제 1 하우징;상기 경로 변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 경로 변경부용 구동부를 포함하고, 상기 회전 부재와 결합되는 결합부를 포함하는 제 2 하우징;상기 제 2 하우징의 내부에 배치되고, 상기 판의 하부에 기계적으로 결합되고, 틸팅 운동하여 상기 판을 틸팅시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 일체로 틸팅시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 원형으로 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 평면 스캔할 수 있게 하는 경로 변경부용 구동부; 및 상기 제 2 하우징의 외부에 기계적으로 결합되고, 회전 운동하여 상기 제 2 하우징만을 회전시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 회전 스캔할 수 있게 하는 회전 구동부;를 포함하는, 검출용 프로브
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 광원 및 상기 경로 변경부 사이에 형성되는 도파관;상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 상기 도파관의 내부로 입사시키는 커플링 렌즈; 및상기 도파관으로부터 방출된 전자기파를 상기 경로 변경부로 집속시키는 포커싱 렌즈를 더 포함하는 검출용 프로브
4 4
제 2 항에 있어서,상기 경로 변경부용 구동부는,상기 판의 하부의 일측에 기계적으로 결합되는 제 1 액츄에이터; 및상기 판의 하부의 타측에 기계적으로 결합되는 제 2 액츄에이터를 포함하고, 상기 제 1 액츄에이터 및 상기 제 2 액츄에이터는 구동 길이가 서로 달라 상기 판을 2차원으로 이동시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 이용하여 2차원 스캔이 가능하게 하는, 검출용 프로브
5 5
제 1 항에 있어서,상기 경로 변경부용 구동부는,상기 판의 하부의 일측에 기계적으로 결합되는 제 1 액츄에이터; 및상기 판의 하부의 타측에 기계적으로 결합되는 제 2 액츄에이터를 포함하고, 상기 제 1 액츄에이터 및 상기 제 2 액츄에이터는 구동 길이가 서로 달라 상기 판을 2차원으로 이동시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 이용하여 2차원 스캔이 가능하게 하는, 검출용 프로브
6 6
전자기파를 생성하는 광원과, 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 판에서 상기 광원쪽으로 연장되어 형성되는 몸체 및 상기 몸체의 끝면에는 상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 반사면을 포함하는 경로 변경부와, 상기 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 상기 경로 변경부에 이격되어 배치되어 상기 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 반사면으로부터 입사된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부와, 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부와, 상기 광원, 상기 경로 변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 검출부를 내부에 구비한 하우징과, 상기 하우징의 내부에 배치되고, 상기 판의 하부에 기계적으로 결합되고, 회전 운동하여 상기 판을 회전시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 일체로 회전시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 회전 스캔할 수 있게 하는 경로 변경부용 구동부를 포함하는 검출용 프로브; 및상기 하우징의 외부에 배치되고, 상기 하우징과 기계적으로 결합되고, 직선 운동하여 상기 하우징을 직선 이동시켜 검출용 프로브의 주변에 원형으로 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 상하 스캔할 수 있게 하는 직선 구동부;를 포함하는 프로브형 검출 장치
7 7
전자기파를 생성하는 광원과, 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 판에서 상기 광원쪽으로 연장되어 형성되는 몸체 및 상기 몸체의 끝면에는 상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 반사면을 포함하는 경로 변경부와, 상기 판의 상부에 기계적으로 결합되고, 상기 경로 변경부에 이격되어 배치되어 상기 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 반사면으로부터 입사된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부와, 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부와, 상기 광원 및 상기 검출부를 내부 포함하고, 제 2 하우징을 수용할 수 있는 홈과, 홈의 양측면에는 상기 제 2 하우징이 수용된 상태에서 회전할 수 있도록 하는 회전 부재를 포함하는 제 1 하우징과, 상기 경로변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 경로 변경부용 구동부를 포함하고, 상기 회전 부재와 결합되는 결합부를 포함하는 제 2 하우징과, 상기 제 2 하우징의 내부에 배치되고, 상기 판의 하부에 기계적으로 결합되고, 틸팅 운동하여 상기 판을 틸팅시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 일체로 틸팅시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 원형으로 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 평면 스캔할 수 있게 하는 경로 변경부용 구동부와, 상기 제 2 하우징의 외부에 기계적으로 결합되고, 회전 운동하여 상기 제 2 하우징만을 회전시킴으로써 검출용 프로브의 주변에 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 회전 스캔할 수 있게 하는 회전 구동부;를 포함하는 검출용 프로브; 및상기 제 1 하우징의 외부에 기계적으로 결합되고, 직선 운동하여 상기 제 1 하우징 및 상기 제 2 하우징을 직선으로 이동시켜 검출용 프로브의 주변에 원형으로 형성된 피검물에 상기 베셀 빔이 형성되도록 하여 피검물에 대해 평면 스캔할 수 있게 하는 직선 구동부;를 포함하는 프로브형 검출 장치
8 8
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,상기 검출용 프로브는,상기 광원 및 상기 경로 변경부 사이에 형성되는 도파관;상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 상기 도파관의 내부로 입사시키는 커플링 렌즈; 및상기 도파관으로부터 방출된 전자기파를 상기 경로 변경부로 집속시키는 포커싱 렌즈를 더 포함하는 프로브형 검출 장치
9 9
제 7 항에 있어서,상기 경로 변경부용 구동부는,상기 판의 하부의 일측에 기계적으로 결합되는 제 1 액츄에이터; 및상기 판의 하부의 타측에 기계적으로 결합되는 제 2 액츄에이터를 포함하고, 상기 제 1 액츄에이터 및 상기 제 2 액츄에이터는 구동 길이가 서로 달라 상기 판을 2차원으로 이동시켜 상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부를 이용하여 2차원 스캔이 가능하게 하는, 프로브형 검출 장치
10 10
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