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스캐닝 모듈 및 베셀빔을 이용한 검출 장치

  • 기술번호 : KST2015183635
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예와 관련된 스캐닝(scanning) 모듈은 광원으로부터 입사되는 전자기파의 경로를 변경시키는 제 1 경로 변경부와, 상기 제 1 경로 변경부를 이동시켜 상기 전자기파의 경로를 조절하는 제 1 구동부 및, 상기 제 1 경로 변경부에 의해 경로가 변경된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부를 포함포함한다.
Int. CL G01N 21/00 (2013.05.31)
CPC G01N 21/00(2013.01) G01N 21/00(2013.01) G01N 21/00(2013.01) G01N 21/00(2013.01) G01N 21/00(2013.01) G01N 21/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130047349 (2013.04.29)
출원인 한국식품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0130250 (2014.11.10) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.01.28)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국식품연구원 대한민국 전라북도 완주군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최성욱 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 김현정 대한민국 서울 서초구
3 이나리 대한민국 서울 구로구
4 장현주 대한민국 서울 송파구
5 옥경식 대한민국 경기 오산시 가수로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 전수진 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)
2 김종승 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)
3 윤정호 대한민국 경기도 수원시 영통구 봉영로 ****, ***호(영통동, 한솔프라자)(특허법인태하)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국식품연구원 대한민국 전라북도 완주군
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0376027-36
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.13 수리 (Accepted) 4-1-2014-0008534-79
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0094331-89
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0094306-47
5 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2016.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-0379214-07
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.05.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0330280-65
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0643212-87
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0757932-26
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0803759-47
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.08.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0803773-87
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2016.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0758799-64
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.10.27 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2016-1046557-54
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-1046529-86
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0054636-53
15 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2017.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0054635-18
16 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2017.01.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0090399-13
17 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2017-0090368-19
18 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2017.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0121406-19
19 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2017.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0458107-30
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2017-5155082-90
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5135028-45
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5176835-79
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2020-5030341-61
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.04 수리 (Accepted) 4-1-2020-5124131-17
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.08 수리 (Accepted) 4-1-2020-5203003-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;회전 운동하는 제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;회전 운동하여 상기 제 1 경로 변경부를 회전시켜, 상기 베셀 빔 형성부에서 형성된 베셀 빔이 회전하도록 하는 제 1 구동부; 및상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부를 포함하는, 스캐닝 모듈
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부는 이격되어 배치되고, 상기 제 1 경로 변경부로부터 입사된 전자기파가 베셀 빔 형성부의 입광면에 수직으로 입사될 수 있도록, 상기 베셀 빔 형성부를 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함하는 스캐닝 모듈
3 3
삭제
4 4
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;상기 제 1 경로 변경부의 하부에 결합되고, 구동 길이가 서로 달라 상기 제 1 경로 변경부를 2차원으로 구동시키는 2개의 엑츄에이터를 포함하는 제 1 구동부; 및상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부를 포함하는, 스캐닝 모듈
5 5
제 1 항에 있어서,상기 콜리메이팅부 및 상기 광학 소자 사이에 배치되고, 상기 콜리메이팅부에 의해 평행해진 전자기파를 반사시켜 상기 광학 소자로 입사시키는 제 2 반사부를 더 포함하는 스캐닝 모듈
6 6
제 5 항에 있어서,상기 광학 소자는상기 제 2 반사부와 상기 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 상기 제 2 반사부로부터 반사된 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는, 스캐닝 모듈
7 7
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;회전 운동하는 제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;회전 운동하여 상기 제 1 경로 변경부를 회전시켜, 상기 베셀 빔 형성부에서 형성된 베셀 빔이 회전하도록 하는 제 1 구동부; 및상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부를 포함하고,상기 베셀 빔 형성부는, 다수의 원형 홈 또는 원형 홀이 동심원 형태로 배치되는 회절 광학 소자 및 양의 굴절률을 갖는 렌즈로 구성되고,상기 다수의 원형 홈 또는 원형 홀은 상기 회절 광학 소자를 오목하게 판 형태 또는 관통하는 형태로 형성되고,상기 양의 굴절률을 갖는 렌즈는 상기 회절 광학 소자에 대하여 평행광이 입사되는 방향의 반대편에 배치되는, 스캐닝 모듈
8 8
제 7 항에 있어서,상기 콜리메이팅부 및 상기 광학 소자 사이에 배치되고, 상기 콜리메이팅부에 의해 평행해진 전자기파를 반사시켜 상기 광학 소자로 입사시키는 제 2 반사부를 더 포함하는 스캐닝 모듈
9 9
제 8 항에 있어서,상기 광학 소자는상기 제 2 반사부와 상기 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 상기 제 2 반사부로부터 반사된 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는, 스캐닝 모듈
10 10
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;회전 운동하는 제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;회전 운동하여 상기 제 1 경로 변경부를 회전시켜, 상기 베셀 빔 형성부에서 형성된 베셀 빔이 회전하도록 하는 제 1 구동부; 및상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부를 포함하고,상기 제 1 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부 사이의 거리는 조절 가능한, 스캐닝 모듈
11 11
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;회전 운동하는 제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;회전 운동하여 상기 제 1 경로 변경부를 회전시켜, 상기 베셀 빔 형성부에서 형성된 베셀 빔이 회전하도록 하는 제 1 구동부;상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부; 및 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부;를 포함하고,상기 베셀 빔 형성부는, 다수의 원형 홈 또는 원형 홀이 동심원 형태로 배치되는 회절 광학 소자 및 양의 굴절률을 갖는 렌즈로 구성되고,상기 다수의 원형 홈 또는 원형 홀은 상기 회절 광학 소자를 오목하게 판 형태 또는 관통하는 형태로 형성되고,상기 양의 굴절률을 갖는 렌즈는 상기 회절 광학 소자에 대하여 평행광이 입사되는 방향의 반대편에 배치되는, 베셀빔을 이용한 검출 장치
12 12
제 11항에 있어서,피검물로부터 반사되어 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 제 1 경로 변경부를 통해 입사된 전자기파를 상기 검출부로 반사시키는 빔스플리터를 더 포함하고,상기 검출부는,상기 빔 스플리터로부터 입사된 전자가파의 세기를 검출하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
13 13
제 11항에 있어서,상기 피검물을 투과하여 발산하는 전자기파를 집광시키는 집광부를 더 포함하고, 상기 검출부는,상기 집광부에 의해 집광된 전자기파의 세기를 검출하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
14 14
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;회전 운동하는 제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;회전 운동하여 상기 제 1 경로 변경부를 회전시켜, 상기 베셀 빔 형성부에서 형성된 베셀 빔이 회전하도록 하는 제 1 구동부;상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부; 및 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부;를 포함하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
15 15
제 14 항에 있어서,피검물로부터 반사되어 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 제 1 경로 변경부를 통해 입사된 전자기파를 상기 검출부로 반사시키는 빔스플리터를 더 포함하고,상기 검출부는,상기 빔 스플리터로부터 입사된 전자가파의 세기를 검출하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
16 16
제 14 항에 있어서,상기 피검물을 투과하여 발산하는 전자기파를 집광시키는 집광부를 더 포함하고, 상기 검출부는,상기 집광부에 의해 집광된 전자기파의 세기를 검출하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
17 17
제 16 항에 있어서,상기 집광부는,상기 피검물을 투과하여 발산하는 전자기파의 직경 이상의 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
18 18
제 14 항에 있어서,상기 제 1 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부는 이격되어 배치되고, 상기 제 1 경로 변경부로부터 입사된 전자기파가 베셀 빔 형성부의 입광면에 수직으로 입사될 수 있도록, 상기 베셀 빔 형성부를 이동시키는 제 2 구동부를 더 포함하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
19 19
광원으로부터 입사된 전자기파를 평행하게 형성하는 콜리메이팅부;상기 콜리메이팅부와 제 1 경로 변경부 사이에서 이동되며, 평행해진 전자기파를 상기 제 1 경로 변경부로 입사시키는 광학 소자;제 1 구동부와 기계적으로 연결되는 몸체와, 상기 콜리메이팅부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 반사시켜 베셀 빔 형성부로 입사시키는 제 1 반사부와, 일측은 상기 몸체와 연결되고 타측은 상기 제 1 반사부와 연결되어 상기 제 1 반사부를 틸팅시켜 상기 베셀 빔 형성부로 입사되는 전자기파의 경로를 변경하는 제 4 구동부로 구성되는 제 1 경로 변경부;상기 제 1 경로 변경부의 몸체와 기계적으로 결합되어 상기 제 1 경로 변경부와 일체로 이동되고, 상기 제 1 반사부로부터 입사되는 평행해진 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부;상기 제 1 경로 변경부의 하부에 결합되고, 구동 길이가 서로 달라 상기 제 1 경로 변경부를 2차원으로 구동시키는 2개의 엑츄에이터를 포함하는 제 1 구동부;상기 광학 소자를 상기 콜리메이팅부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 다이버징(diverging) 시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 증가시키거나, 상기 광학 소자를 상기 제 1 경로 변경부 쪽으로 이동시켜 상기 제 1 경로 변경부로 입사되는 전자기파를 컨버징(converging)시켜 상기 베셀 빔 형성부에서 생성되는 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 감소시켜, 베셀 빔의 초점 심도(Depth Of Focus; DOF)를 조절하는 제 5 구동부; 및 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부;를 포함하는 베셀빔을 이용한 검출 장치
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