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복사열전달 장치

  • 기술번호 : KST2015184353
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 복사열전달 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 을 포함하여 장치가 간소화되어 경제적이며, 사용자의 편의성이 극대화 될 뿐 아니라, 실험결과의 신뢰도를 향상시킬 수 있는 복사열전달 장치에 관한 것이다.
Int. CL B64G 7/00 (2006.01) B64G 1/58 (2006.01)
CPC B64G 7/00(2013.01)
출원번호/일자 1020120096081 (2012.08.31)
출원인 한국항공우주연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0028851 (2014.03.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.08.31)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국항공우주연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조혁진 대한민국 대전광역시 유성구
2 서희준 대한민국 대전광역시 유성구
3 이상훈 대한민국 대전광역시 서구
4 박성욱 대한민국 대전광역시 유성구
5 문귀원 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0703197-26
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.06.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.08.02 수리 (Accepted) 9-1-2013-0060796-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.01.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0051258-79
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.03.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0208497-65
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0208472-24
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0339004-66
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번호 청구항
1 1
내부에 공간부를 구비하는 판 형상의 복사열조사부(100);상기 복사열조사부(100)의 공간부에 구비되는 유로(200); 및상기 복사열조사부(100)의 외면에 방사율을 변화시키는 방사율 변화물질이 도포되어 형성되는 복사열변화부(300);를 포함하는 복사열전달 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 복사열변화부(300)는상기 복사열조사부(100)에 적어도 하나 이상 형성되며, 복수 개로 형성될 경우, 각각의 상기 복사열변화부(300)가 서로 다른 방사율을 가지도록 형성되는 복사열전달 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 복사열변화부(300)는상기 방사율 변화물질이 테이프 또는 페인트인 복사열전달 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 복사열전달 장치(1000)는하나의 상기 유로(200)가 구비되며, 상기 유로(200)는 상기 복사열조사부(100)의 전체에 열을 발생시킬 수 있도록 구비되는 복사열전달 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.