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다중게이트 단전자 소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015185019
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 소오스 및 드레인 사이에 나노 스케일의 채널영역이 구성된 기판 및 상기 채널영역에 양자점을 포함하는 단전자 소자에 있어서, 측면게이트(Side Gate)상에 동일한 간격으로 이격되고, 각각의 선폭이 제1상부게이트의 선폭의 n배인 복수 개의 상부게이트를 형성하여, 상부게이트에 동일한 전압을 인가할 때에 쿨롱진동의 위상을 변경시키는 단전자 소자에 관한 것이다. 본 발명의 구체적 수단으로서 다중게이트 단전자 소자는, 채널영역에 직교하며, 채널영역의 일측 방향으로 형성되어 쿨롱진동의 위상을 변화시켜주는 측면게이트; 측면게이트 상에 성층된 게이트 산화막층; 채널영역에 직교하며, 채널영역의 타측 방향으로 형성되어 채널영역에 흐르는 전류를 제어하는 콘트롤게이트; 및 게이트 산화막층 상에 형성된 복수 개의 상부게이트들;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 아울러, 소오스와 드레인 사이에 전자빔 리소그래피 및 열산화 공정을 이용하여 양자점, 터널링 접합 및 측면게이트를 형성하고, 선폭이 서로 다른 복수 개의 상부게이트를 형성하여, 각각의 상부게이트의 선폭의 비에 따라 쿨롱진동의 위상을 변화시킬수 있는 다중게이트 단전자 소자의 제조방법을 제공한다. 단전자 소자, 측면게이트, 다중게이트, 양자점
Int. CL H01L 29/775 (2006.01)
CPC H01L 29/7613(2013.01) H01L 29/7613(2013.01) H01L 29/7613(2013.01)
출원번호/일자 1020070120683 (2007.11.26)
출원인 충북대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0996812-0000 (2010.11.19)
공개번호/일자 10-2009-0054022 (2009.05.29) 문서열기
공고번호/일자 (20101125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.05.15)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최중범 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 이창근 대한민국 서울 구로구
3 김상진 대한민국 충북 청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김문종 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)
2 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0846834-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2007-5179320-78
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2008.02.01 수리 (Accepted) 1-1-2008-0084416-16
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.05.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0344525-16
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2008-0344561-49
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0115820-60
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.05.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0313198-11
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2010-0313199-56
9 등록결정서
Decision to grant
2010.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0412948-38
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.28 수리 (Accepted) 4-1-2014-5103343-45
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5081402-70
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5086612-26
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149268-82
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소오스(20) 및 드레인(21) 사이에 나노 스케일의 채널영역이 구성된 기판 및 상기 채널영역에 양자점을 포함하는 단전자 소자에 있어서, 상기 채널영역에 직교하며, 상기 채널영역의 일측 방향으로 형성되어 쿨롱진동의 위상을 변화시켜주는 측면게이트(22); 상기 측면게이트(22) 상에 성층된 게이트 산화막층(13); 상기 채널영역에 직교하며, 상기 채널영역의 타측 방향으로 형성되어 상기 채널영역에 흐르는 전류를 제어하는 콘트롤게이트(30); 및 상기 게이트 산화막층(13) 상에 형성된 복수 개의 상부게이트들(31a, 31b, 31c);을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중게이트 단전자 소자
2 2
제 1항에 있어서, 상기 복수 개의 상부게이트들(31a, 31b, 31c)은 동일한 간격으로 이격되어 형성된 것을 특징으로 하는 다중게이트 단전자 소자
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 복수 개의 상부게이트들(31a, 31b, 31c)은, 상기 채널영역에 근접하게 형성되고, 소정의 선폭을 갖는 제1상부게이트(31a)와; 상기 채널영역과 멀어지는 방향으로 형성되고, 상기 제1상부게이트의 선폭의 n배(n은 2이상의 자연수)의 선폭을 갖는 제n상부게이트들;을 포함하며, 상기 n은 2이상의 자연수인 것을 특징으로 하는 다중게이트 단전자 소자
4 4
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 복수 개의 상부게이트들(31a, 31b, 31c)은 상기 측면게이트(22)와 직교하는 방향으로 형성된 것을 특징으로 하는 다중게이트 단전자 소자
5 5
삭제
6 6
소오스(20) 및 드레인(21) 사이에 나노 스케일의 채널영역이 구성된 기판 및 상기 채널영역에 양자점을 포함하는 단전자 메모리 소자의 제조방법에 있어서, 하부실리콘층(12), 절연막(11) 및 상부실리콘층(10)으로 이루어진 기판의 상기 상부실리콘층(10)을 식각하여 채널영역, 소오스(20) 영역, 드레인(21) 영역 및 측면게이트(22) 영역을 형성하는 영역형성단계(S10); 상기 채널영역 및 상기 측면게이트(22) 영역의 일부 상에 게이트 산화막층(13)을 성막하는 게이트 산화막층 성층단계(S20); 상기 측면게이트(22) 영역과 대향되는 측에 콘트롤게이트(30) 영역을 형성하는 콘트롤게이트 영역형성단계(S30); 상기 소오스(20) 영역, 드레인(21) 영역, 측면게이트(22) 영역, 콘트롤게이트(30) 영역에 불순물을 주입하는 도핑단계(S40); 불순물이 함유된 폴리 실리콘층을 저압화학기상증착 방식으로 성층하고, 전자빔 리소그래피 또는 포토 리소그래피를 이용하여 상부게이트 영역의 패턴을 형성하고, 상기 패턴에 따라 반응성 이온 식각 방식을 이용하여 선폭이 서로 다른 복수개의 상부게이트(31a, 31b, 31c) 층을 형성하는 상부게이트 영역형성단계(S50); 상기 소오스(20) 영역, 드레인(21) 영역, 측면게이트(22) 영역, 콘트롤게이트(30) 영역 및 복수 개의 상부게이트(31a, 31b, 31c) 영역의 일부를 식각하여 콘택홀을 형성하는 콘택홀 형성단계(S60); 및 상기 콘택홀이 매립되도록 금속막을 증착하는 금속패드 형성단계(S70);로 구성된 것을 특징으로 하는 단전자 소자의 제조방법
7 7
제 6항에 있어서, 상기 영역형성단계(S10)는, 전자빔 리소그래피 또는 포토 리소그래피를 이용하여 소정의 패턴을 형성하는 제1패턴형성단계(S12); 및 상기 패턴에 따라 식각하여 상기 소오스(20) 영역, 드레인(21) 영역, 채널영역 및 측면게이트(22) 영역을 형성하는 제1식각단계(S14);로 구성되는 것을 특징으로 하는 단전자 소자의 제조방법
8 8
제 7항에 있어서, 상기 제1식각단계(S14)는 반응성 이온식각을 이용하는 것을 특징으로 하는 단전자 소자의 제조방법
9 9
제 6항에 있어서, 상기 게이트 산화막층(13) 성층단계(S20)는 실리콘 산화막을 열산화 공정으로 성층하는 것을 특징으로 하는 단전자 소자의 제조방법
10 10
제 6항에 있어서, 상기 콘트롤게이트(30) 영역형성단계(S30)는 폴리실리콘층을 저압화학기상증착 방식으로 성층하여 형성하는 것을 특징으로 하는 단전자 소자의 제조방법
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
제 3 항에 있어서, 상기 복수 개의 상부게이트들(31a, 31b, 31c)은 상기 측면게이트(22)와 직교하는 방향으로 형성된 것을 특징으로 하는 다중게이트 단전자 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.