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인쇄 회로 기판에 패턴을 형성한 유전체 안테나 장치 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015185207
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 인쇄 회로 기판에 패턴을 형성한 유전체 안테나 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 인쇄 회로 기판을 제공하는 단계, 상기 인쇄 회로 기판에 급전선로 패턴 및 안테나 패턴을 형성하는 단계 및 상기 안테나 패턴 상에 유전체를 실장하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면 유전체 안테나 제조 공정에서 유전체에 안테나 패턴을 형성하지 않고, 인쇄 회로 기판 상에 안테나 패턴을 형성함으로써 제조 비용의 획기적 절감과 스크린 프린팅 방식 대비, 정밀한 인쇄회로 기판의 패턴 적용으로 특성 균일도에 상당한 효과가 있다. PCB, 유전체, 안테나, 패턴, 급전선, 유전율, 인쇄회로기판, 제조비용.
Int. CL H01Q 13/08 (2006.01) H01Q 1/38 (2006.01)
CPC H01Q 1/38(2013.01) H01Q 1/38(2013.01) H01Q 1/38(2013.01) H01Q 1/38(2013.01)
출원번호/일자 1020090114047 (2009.11.24)
출원인 (주)맥테크놀러지, 충북대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0057584 (2011.06.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.24)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)맥테크놀러지 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 고형석 대한민국 충청북도 청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인세아 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 **, *동 ****호(가산동, 롯데IT캐슬)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0722164-27
2 보정요구서
Request for Amendment
2009.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0093732-67
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2010.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2010-0010399-18
4 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2010.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2010-0422618-19
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.03.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0034004-49
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0224268-24
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0479969-88
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0667076-31
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0667107-69
11 보정요구서
Request for Amendment
2011.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0078182-17
12 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0762865-00
13 보정요구서
Request for Amendment
2011.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0092999-19
14 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2011.10.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0786456-91
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0145002-56
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.28 수리 (Accepted) 4-1-2014-5103343-45
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5081402-70
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0052293-71
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.05.27 수리 (Accepted) 4-1-2016-5067234-12
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5086612-26
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149268-82
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board, PCB)을 제공하는 단계; 상기 인쇄 회로 기판에 급전선로 패턴 및 안테나 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 안테나 패턴 상에 유전체를 실장하는 단계를 포함하는 유전체 안테나 장치 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 안테나 패턴 상에 유전체를 실장하는 단계는, 상기 안테나 패턴을 모두 포함하는 크기의 유전체를 상기 안테나 패턴 상에 실장하는 것을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치 제조 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 유전체는 9 내지 90의 유전율을 갖는 것임을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치 제조 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판과 상기 유전체와의 정합도를 측정하여 적합한 유전율을 갖는 유전체를 선택하여 실장하는 것을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치 제조 방법
5 5
급전선로 패턴과 안테나 패턴이 형성된 인쇄 회로 기판; 및 상기 안테나 패턴 상에 실장된 유전체를 포함하는 유전체 안테나 장치
6 6
제5항에 있어서, 상기 유전체는 상기 안테나 패턴을 모두 포함하도록 실장되는 것을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치
7 7
제5항에 있어서, 상기 유전체는 9 내지 90의 유전율을 갖는 것임을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치
8 8
제7항에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판과 상기 유전체와의 정합도를 측정하여 적합한 유전율을 갖는 유전체가 사용되는 것을 특징으로 하는 유전체 안테나 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.