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상온에서 동작하는 단전자 논리 소자 제조방법

  • 기술번호 : KST2015185247
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 나노선 구조물에 수직으로 형성된 트랜치 내측면에, 질화막을 이용한 측면을 형성하여, 양자점이 형성되는 채널의 크기를 최소화하고, 불순물의 농도차를 이용하여 양자점의 형성과 동시에 소스와 드레인을 형성함으로써, 게이트를 채널 상부에만 형성하는 것이 가능하여 기생 전계 효과를 사전에 방지하고, 게이트 전위를 높이더라도 포텐셜 장벽이 낮아지는 것을 막아 상온에서의 동작 특성을 향상시킬 수 있는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 이를 실현하기 위한 수단으로서 본 발명에 따르는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법은, 제1산화막(10) 위에 반도체층(11)을 형성하고, 반도체층(11) 위로 제2산화막(12)을 형성하여 기판을 형성하는 제1단계; 제2산화막(12) 위에 나노선 마스크 패턴을 형성하고, 반도체층(11) 및 제2산화막(12)을 식각하여 나노선구조물(10a)을 형성하는 제2단계; 제1산화막(10) 위로 폴리실리콘층(20) 및 제3산화막(30)을 차례로 증착하는 제3단계; 제3산화막(30) 위에 나노선 구조물(10a)과 수직으로 레지스트 패턴을 형성하고, 반도체층(11)이 드러날때까지 식각하여 채널(10b)과 함께 트랜치(40)를 형성하는 제4단계; 트랜치(40)의 양측면에 질화막(50)을 형성하는 제5단계; 채널(10b)의 표면에 게이트 산화막(60)을 형성하면서 양자점을 동시에 형성하는 제6단계; 및 트랜치(40)에 폴리실리콘을 충진하여 게이트(70)를 형성하는 제7단계;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다. 나노선 구조물, 양자점, 불순물 확산, 측벽구조, 게이트, 단전자 소자
Int. CL H01L 21/334 (2006.01) H01L 29/775 (2006.01)
CPC H01L 29/7613(2013.01) H01L 29/7613(2013.01) H01L 29/7613(2013.01) H01L 29/7613(2013.01)
출원번호/일자 1020070093434 (2007.09.14)
출원인 충북대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0949038-0000 (2010.03.15)
공개번호/일자 10-2009-0028115 (2009.03.18) 문서열기
공고번호/일자 (20100324) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.02.21)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최중범 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 김상진 대한민국 충북 청원군
3 이창근 대한민국 서울 구로구
4 박은실 대한민국 경기 용인시 기흥구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김문종 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)
2 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 최중범 충북 청주시 흥덕구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-0666485-06
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2007.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2007-0807793-72
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2007.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2007-0807681-67
4 보정요구서
Request for Amendment
2007.11.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2007-0161269-88
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2007.11.16 수리 (Accepted) 1-1-2007-0823424-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0081183-47
7 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0128389-81
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2009-0059740-06
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0473035-18
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.12.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0752235-18
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0752237-10
13 등록결정서
Decision to grant
2010.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0102258-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.28 수리 (Accepted) 4-1-2014-5103343-45
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5081402-70
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5086612-26
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149268-82
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번호 청구항
1 1
제1산화막(10) 위에 반도체층(11)을 형성하고, 상기 반도체층(11) 위로 제2산화막(12)을 형성하여 기판을 형성하는 제1단계; 상기 제2산화막(12) 위에 나노선 마스크 패턴을 형성하고, 상기 반도체층(11) 및 제2산화막(12)을 식각하여 나노선구조물(10a)을 형성하는 제2단계; 상기 제1산화막(10) 위로 폴리실리콘층(20) 및 제3산화막(30)을 차례로 증착하는 제3단계; 상기 제3산화막(30) 위에 상기 나노선 구조물(10a)과 수직으로 레지스트 패턴을 형성하고, 상기 반도체층(11)이 드러날때까지 식각하여 채널(10b)과 함께 트랜치(40)를 형성하는 제4단계; 상기 트랜치(40)의 양측면에 질화막(50)을 형성하는 제5단계; 상기 채널(10b)의 표면에 게이트 산화막(60)을 형성하면서 양자점을 동시에 형성하는 제6단계; 및 상기 트랜치(40)에 폴리실리콘을 충진하여 게이트(70)를 형성하는 제7단계;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제2산화막(12)은 열산화 공정 또는 기상 증착 방법으로 형성된 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 나노선 구조물(10a)은 포토 리소그래피 또는 전자빔 리소그래피 방식으로 형성된 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 나노선 구조물(10a)은 4~8㎚의 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 폴리실리콘층(20)은 농도 1X1012/㎠ 의 불순물인 P, As, 또는 B를 포함하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 폴리실리콘층(20)은 상기 나노선 구조물(10a)의 높이보다 두껍게 형성된 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 제4단계는 상기 반도체층(11)의 표면을 더 식각하여 트랜치(40) 형성과 동시에 채널(10b)를 함께 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 트랜치(40)는 폭이 30 ~ 80㎚인 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 제5단계는 제3산화막(30)의 표면에 일정 두께로 질화막(50)을 증착하고, 상기 트랜치(40)의 양측면만 남기고 나머지 부분을 식각하여 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
10 10
제 9 항에 있어서, 제5단계는 상기 질화막(50)을 식각할 수 있는 시간보다 10%의 시간을 더 식각하여, 상기 반도체층(11)의 양측면에 질화막(50)을 완전하게 제거하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 제5단계는 상기 질화막(50)이 상기 폴리실리콘층(20)의 높이보다 높게 형성된 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 제5단계는 질화막(50) 사이의 간격을 4~8㎚로 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
13 13
제 1 항에 있어서, 상기 제6단계는 열산화 공정을 통해 게이트 산화막(60)을 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 제6단계는 열산화 공정으로 발생된 열에너지에 의해 폴리실리콘층(20)의 불순물 이온이 농도차로 반도체층(11)의 양쪽으로 이동하여 소스(13) 및 드레인(14)을 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
15 15
제 1 항에 있어서, 상기 제7단계는 1X1012/㎠ 농도를 갖는 인(P), 혹은 비소(As), 또는 붕소(B)를 포함하는 폴리실리콘으로 게이트(70)를 형성하는 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
16 16
제 1 항에 있어서, 상기 제조방법은 상기 제1산화막(10)의 하부에 금속막을 증착하여 게이트를 바텀형으로 제조가능한 것을 특징으로 하는 상온에서 동작하는 단전자 논리 소자의 제조방법
17 17
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