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(a)유기아민을 포함한 비정질 티타니아 입자를 준비하는 단계;(b)상기 유기아민을 포함한 비정질 티타니아 입자의 표면에 쉘을 형성시켜 코어-쉘 구조의 입자를 형성하는 단계;(c)상기 코어-쉘 구조의 입자를 열처리하는 단계; 및(d)상기 열처리된 입자의 쉘을 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 비정질 티타니아 입자는 졸겔법을 이용하여 제조하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기아민은 프로필아민(propylamine), 부틸아민(butylamine), 도데실아민(dodecylamine), 헥사데실아민 (hexadecylamine), 아닐린(aniline) 및 피리딘(pyridine)으로 이루어진 군에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 1 항에 있어서,코어-쉘 구조의 입자를 형성하는 단계에서 상기 쉘은 실리카 쉘 또는 고분자 쉘인 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 실리카 쉘은 실리콘알콕사이드(Silicon alkoxide)류 또는 알콕시실릴기를 가진 (메타)아크릴레이트류를 전구체로 사용하여 형성된 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 쉘은 방향족 비닐화합물 또는 (메타)아크릴레이트계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 단량체로부터 제조된 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 쉘은 비이온성 계면활성제 또는 양친성 블록공중합체를 사용하여 제조된 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 실리카 쉘은 공기 분위기에서 열처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 쉘을 산소가 없는 분위기에서 열처리를 하여 탄화된 쉘을 제조하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 실리카 쉘을 불산을 사용하여 제거하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 쉘을 산소가 있는 분위기에서 300~500℃에서 열처리를 수행하여 제거하는 것을 특징으로 하는 고굴절률 티타니아 미세입자의 제조방법
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