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포토레지스트용 노블락 수지의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015185588
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 종래 노블락 수지의 물성을 개선하여 우수한 물성의 반도체 및 LCD공정용 노블락 수지를 제공하여 포토레지스트 제조에 유용하며 열적안정성이 증대된 노블락 수지 제조 방법이 개시된다. 본 발명에 의하면 메타 크레졸과 파라 크레졸, 페놀단량체 그리고 옥살산 이수화물을 혼합 가열한 다음 분자량 조절제를 적하시킨 후 반응시킴을 특징으로 하는, 포토레지스트용 노블락 수지 제조방법을 제공하므로서 그 목적이 달성된다.
Int. CL G03F 7/004 (2006.01)
CPC G03F 7/0045(2013.01) G03F 7/0045(2013.01) G03F 7/0045(2013.01)
출원번호/일자 1020070064830 (2007.06.29)
출원인 충북대학교 산학협력단, 주식회사 지코
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0000911 (2009.01.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.29)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구
2 주식회사 지코 대한민국 충청북도 음성군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종대 대한민국 충북 청주시 흥덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤의상 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구 풍산로 **, 충북중소기업종합지원센타 *층 한울국제특허법률사무소 (가경동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2007-0475146-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.12.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.01.14 수리 (Accepted) 9-1-2008-0001955-88
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.06.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0307458-89
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.08.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0558570-68
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.09.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0628997-14
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.10.06 수리 (Accepted) 1-1-2008-0696083-37
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.11.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0764625-13
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.12.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0835906-81
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0835903-44
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2009.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0115354-71
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.08.28 수리 (Accepted) 4-1-2014-5103343-45
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.06.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5081402-70
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5086612-26
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149268-82
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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메타 크레졸과 파라 크레졸, 페놀단량체 그리고 옥살산 이수화물을 혼합 가열한 다음 분자량 조절제를 적하시킨 후 반응시킴을 특징으로 하는, 포토레지스트용 노블락 수지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 페놀단량체는 2,5-디메틸페놀, 3,5-디메틸페놀을 특징으로 하는, 포토레지스트제조용 노블락 수지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 페놀단량체는 비스페놀A임을 특징으로 하는, 포토레지스트제조용 노블락 수지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 분자량 조절제는 35% 포름알데히드임을 특징으로 하는, 포토레지스트제조용 노블락 수지 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 적하는 혼합가열 후 85℃가 되었을 때 1시간 동안 행함을 특징으로 하는, 포토레지스트제조용 노블락 수지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기반응은 110℃에서 6시간 행하는 것임을 특징으로 하는, 포토레지스트제조용 노블락 수지 제조방법
7 7
제 1항에 있어서 메타 크레졸, 파라 크레졸, 페놀단량체, 분자량조절제 및 옥살산이수화물의 혼합비는 단량비로 0
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제 1항내지 제 7항 중 어느 한 항으로 제조되는 포토레지스트용 노블락 수지
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제 1항에 있어서 제조된 노블락 수지에서 미반응물, 옥살산, 수분, 에틸아세테이트를 제거하여 점도가 높은 액성상태로 정제하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.