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하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 실리콘 또는 실리케이트 전구체 물질을 산화기체 플라즈마로 화학증착시키는 것을 포함하는, SiCOH 계열 저유전체 박막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 실리콘 또는 실리케이트 전구체 물질이 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물임을 특징으로 하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 실리콘 또는 실리케이트 전구체 물질이 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물과 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 탄화수소 화합물과의 조합임을 특징으로 하는 방법
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제2항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물이 하나 이상의 할로겐 원소로 치환됨을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물이 하나 이상의 할로겐 원소로 치환됨을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 탄화수소 화합물이 하나 이상의 할로겐 원소로 치환됨을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물이 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 것임을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물과 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 탄화수소 화합물과의 조합비가 1 : 0
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제2항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물이 비닐트리메틸실란, 비닐트리에틸실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 1,3,5-트리비닐-1,3,5-트리메틸시클로트리실록산, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸시클로테트라실록산, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 헥사비닐디실록산, 알릴디메틸실란, 알릴디메톡시실란, 에티닐트리메틸실란, 에티닐트리에틸실란 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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제9항에 있어서, 비닐트리메틸실란, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸시클로테트라실록산, 알릴디메틸실란, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 비닐트리메톡시실란 및 에티닐트리메틸실란 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물이 트리메틸실란, 트리에틸실란, 트리메톡시실란, 트리에톡시실란, 테트라메틸실란, 테트라에틸실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 헥사메틸시클로트리실록산, 테트라메틸시클로테트라실록산, 테트라에틸시클로테트라실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 헥사메틸디실록산, 비스트리메틸실릴메탄, 비닐트리메틸실란, 비닐트리에틸실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 1,3,5-트리비닐-1,3,5-트리메틸시클로트리실록산, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸시클로테트라실록산, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 헥사비닐디실록산, 알릴디메틸실란, 알릴디메톡시실란, 에티닐트리메틸실란, 에티닐트리에틸실란 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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제11항에 있어서, 테트라메틸실란, 헥사메틸디실록산 및 테트라메틸시클로테트라실록산 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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제3항에 있어서, 상기 하나 이상의 비닐이나 에티닐기를 포함하는 탄화수소 화합물이 H2C=CH2, F2C=CF2, H2C=CF2, HFC=CFH, F2C=C=CF2, H2C=C=CF2, HFC=C=CFH, HC≡CH, FC≡CH, FC≡CF, Cl2C=CCl2, H2C=CCl2, HClC=CClH, Cl2C=C=CCl2, H2C=C=CCl2, HClC=C=CClH, ClC≡CH, ClC≡CCl, Br2C=CBr2, H2C=CBr2, HBrC=CBrH, Br2C=C=CBr2, H2C=C=CBr2, HBrC=C=CBrH, BrC≡CH, BrC≡CBr, I2C=CI2, H2C=CI2, HIC=CIH, I2C=C=CI2, H2C=C=CI2, HIC=C=CIH, IC≡CH, IC≡CI 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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14
제13항에 있어서, H2C=CH2 또는 F2C=CF2 임을 특징으로 하는 방법
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15
제3항에 있어서, 유기실리콘 또는 유기실리케이트 화합물과 하나 이상의 비닐 또는 에티닐기를 포함하는 탄화수소 화합물과의 조합이, 테트라메틸실란(SiC4H12)과 C2F4의 조합, 테트라메틸시클로테트라실록산(Si4O4C4H16)과 C2H4의 조합 또는 헥사메틸디실록산(Si2OC6H18)과 C2H4의 조합임을 특징으로 하는 방법
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16
제1항에 있어서, 상기 산화기체가 O2, N2O, O3, H2O2, CO2, 수증기 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 방법
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17
제1항에 있어서, 증착된 박막을 100 내지 500℃에서 0
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18
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된, SiCOH 계열 저유전체 박막
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