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ⅰ)기질 표면에 원자전이 라디칼중합(ATRP)용 중합개시제를 자기조립하여 중합개시제 분자 박막층을 형성하는 단계; ⅱ)상기 자기조립된 중합개시제 분자 박막층을 광식각하여 패턴화하는 단계; ⅲ)상기 패턴화된 중합개시제 박막상에 ATRP용 단량체, 리간드 및 촉매를 포함하는 중합 반응물을 도입하여 중합을 수행하는 단계를 포함하는, 중합체 패턴의 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 자기조립단계가 상온에서 0
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제 1 항에 있어서,상기 중합개시제가 하기 화학식 1의 구조를 갖는 화합물임을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 패턴화 단계가 중합개시제 박막에 광 마스크를 덮고 자외선, X-선 또는 전자선 조사 후 세정함으로써 수행됨을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 ATRP 중합이 상온에서 수행됨을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 ATRP 중합에 사용되는 단량체가 스티렌 또는 메틸메타크릴레이트이고, 리간드가 헥사메틸트리에틸아민이며, 촉매가 제일브롬화구리임을 특징으로 하는 방법
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7
제 1 항에 있어서, 상기 자기조립단계 전에 기질을 표면개질시켜 기질과 자기조립을 중합개시제의 결합능을 증대시킴을 특징으로 하는 방법
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8
제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항의 방법으로 형성된 중합체 패턴
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기판 상에 형성된 패턴 형성층 위에 제 8 항의 중합체 패턴을 접합시킨 후 이를 패턴형성층에 대한 에칭 용액에 침지시키는 것을 포함하는, 기판 상에 미세패턴을 형성하는 방법
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