맞춤기술찾기

이전대상기술

펄스 레이저 유기 충격파를 이용한 금속표면 세정방법 및세정장치

  • 기술번호 : KST2015186784
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 펄스 레이저를 금속이 잠긴 세정액 표면에 집속시켜 세정액이 절연파괴 되는 과정에서 유기된 충격파를 이용하여 금속표면의 불순물을 제거하거나 화학적 세정공정을 단축시키는 금속표면 세정방법을 제공한다. 세정액 내에서 절연파괴가 일어나면 고온고압의 플라즈마가 발생하는데, 이 때 플라즈마 팽창이 유도되면서 강한 충격파가 발생된다. 발생된 충격파는 금속 위의 입자 또는 막 형태의 불순물을 표면으로부터 제거하거나 화학물질의 세정작용을 촉진하게 된다. 본 발명에 따른 세정방법은 제거하고자 하는 불순물의 종류에 따라 세정액의 종류와 농도를 바꿀 수 있어 다양한 불순물 제거에 적용될 수 있으며, 또한 입자상 불순물과 유기 불순물을 동시에 제거할 수도 있고, 습식공정이므로 대기 중 습기에 의해 발생하는 입자와 표면간 모세관력을 원천적으로 배제하여 입자제거를 용이하게 할 수 있는 장점을 가진다. 특히 본 발명은 철강제조 공정에서 금속표면에 생성되는 불순물을 제거하는 산세공정을 단축시키는 데 효과적으로 활용될 수 있다. 펄스 레이저, 플라즈마, 충격파, 산세공정, 산화막
Int. CL B21B 45/00 (2006.01)
CPC B21B 45/0275(2013.01) B21B 45/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020020072822 (2002.11.21)
출원인 주식회사 포스코, 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자 10-0913151-0000 (2009.08.13)
공개번호/일자 10-2004-0044317 (2004.05.28) 문서열기
공고번호/일자 (20090819) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.21)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 포스코 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김동식 대한민국 경상북도포항시남구
2 임현규 대한민국 경상북도포항시남구
3 박명기 대한민국 경상북도포항시남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 포스코 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2002-0384862-96
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2007.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0835325-29
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0186161-19
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0402412-39
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.07.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0402414-20
6 등록결정서
Decision to grant
2009.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0319210-34
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.04.30 수리 (Accepted) 4-1-2018-5077322-80
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5200802-82
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-5204006-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저를 이용하여 금속표면을 세정하는 금속표면 세정방법에 있어서, 레이저 펄스를 방출할 수 있는 레이저를 제공하는 단계; 세정액을 제공하는 단계; 상기 세정액을 가열하는 단계; 상기 세정액 내에 세정할 금속을 담그는 단계; 상기 레이저로부터 방출되는 레이저 펄스가 하나 이상의 광학소자를 지나게 하는 단계; 및 상기 광학소자를 지난 레이저 펄스를 상기 세정액의 표면에서 초점이 맺히도록 집속시켜 상기 세정액 내에서 고온고압의 플라즈마를 발생시키고 이로 인하여 발생되는 충격파로 상기 금속표면의 불순물을 제거하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 세정액은 산성용액인 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 산성용액을 담은 용기를 상하로 이동시켜 상기 산성용액의 표면에서 레이저 펄스의 초점이 맺히도록 하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 레이저는 Nd:YAG 레이저, 엑시머 레이저, 펄스형 기체레이저, 고출력 다이오드레이저, 펄스형 고상레이저, 구리 증기레이저 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 금속은 열간압연 공정을 거친 열연강인 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 광학소자는 상기 레이저로부터 방출된 펄스 레이저의 경로를 변경시키는 거울; 및 상기 거울에서 반사된 펄스 레이저를 통과시키면서 집광하는 볼록렌즈 를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
8 8
제 7 항에 있어서, 상기 광학소자는 펄스 레이저를 균일화하기 위한 빔 균일화수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
9 9
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 광학소자는 펄스 레이저를 확대하기 위한 빔 확대수단을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 금속표면 세정방법
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.