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대전 분자의 공간 위치 제어를 위한 전기적 장치 및, 방법
- 기술번호 : KST2015186798
- 담당센터 : 대구기술혁신센터
- 전화번호 : 053-550-1450
| 요약 | 대전 분자의 공간 위치를 전자적으로 제어하는 방법 및, 장치가 개시된다. 개시된 방법은 반응 유니트내에서 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 것에 관한 것인데, 복수개의 전극들이 배치되고, 전극 배치의 기하는 원형, 사각형 또는 다이아몬드 형상과 같은 폐쇄 시스템이다. 이러한 제어는 대전 분자의 이송뿐만 아니라 대전 분자의 개별적인 종들의 선택적인 분리로 확장된다. 본 발명은 핵산 혼성화, 핵산 증폭, 샘플 준비, 항체/항원 반응, 임상학적 진단 및, 생물 폴리머의 합성과 같은 분자 생물학 반응에서 유용하다. |
|---|---|
| Int. CL | C12Q 1/68 (2006.01) |
| CPC | |
| 출원번호/일자 | 1020037002116 (2003.02.13) |
| 출원인 | 학교법인 포항공과대학교 |
| 등록번호/일자 | 10-0473815-0000 (2005.02.18) |
| 공개번호/일자 | 10-2003-0040397 (2003.05.22) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20050314) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | PCT/KR2001/001019 (2001.06.14) |
| 국제공개번호/일자 | WO2002103061 (2002.12.27) |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2003.02.13) |
| 심사청구항수 | 50 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 학교법인 포항공과대학교 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 남홍길 | 대한민국 | 서울특별시강남구 |
| 2 | 이승섭 | 대한민국 | 경상북도포항시남구 |
| 3 | 윤재영 | 대한민국 | 서울특별시관악구 |
| 4 | 문상준 | 대한민국 | 경상북도포항시남구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이영필 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인) |
| 2 | 이해영 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 학교법인 포항공과대학교 | 경북 포항시 남구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허법 제201조 및 제203조의 규정에 의한 서면 Document under Articles 201 and 203 of Patent Act |
2003.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2003-0050363-60 |
| 2 | 보정통지서 Request for Amendment |
2003.03.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2003-0019321-74 |
| 3 | 서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items |
2003.03.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2003-5060741-33 |
| 4 | 등록결정서 Decision to grant |
2005.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2005-0043832-23 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.07.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5149263-30 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 기판상에 복수개의 외측 전극으로 둘러싸인 중앙 전극을 가진 반응 유니트내에서 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 방법으로서, 상기 반응 유니트는 분자의 운동에 마찰 저항을 제공하는 매질로 충전되고, 상기 방법은, (1) 대전 분자를 상기 반응 유니트내에 배치하는 단계; (2) 전기장을 발생시키도록 소정 크기의 제 1 전압들을 중앙 전극과 복수개의 외측 전극들로부터 선택된 적어도 하나의 외측 전극의 한 세트(set)에 인가하는 단계; 및, (3) 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 전기장을 회전시키도록 소정 크기의 제 2 전압들을 중앙 전극과 복수개의 외측 전극들로부터 선택된 적어도 하나의 외측 전극의 한 세트에 인가하는 단계;를 구비하고, 선택된 전극들에 인가된 전압에 의해 발생된, 반응 유니트에 걸친 순전하는 제로로 유지되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 2 |
2 기판상에 복수개의 전극을 가지는 반응 유니트에서 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 방법에 있어서, 상기 반응 유니트는 분자의 운동에 마찰 저항을 제공하는 매질로 충전되고, 상기 방법은, (1) 대전 분자를 상기 반응 유니트내에 배치하는 단계; (2) 전기장을 발생시키도록 복수개의 전극들로부터 선택된 적어도 2 개의 전극들의 한 세트에 소정 크기의 제 1 전압을 인가하는 단계; 및, (3) 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 전기장을 회전시키도록 복수개의 전극들로부터 선택된 적어도 2 개의 다른 전극들의 한 세트에 소정 크기의 제 2 전압을 인가하는 단계;를 구비하고, 선택된 전극들에 인가된 전압에 의해서 발생된, 반응 유니트에 걸친 순전하는 제로에서 유지되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서, 외측 전극의 갯수는 3 내지 30 개인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 4 |
4 제 2 항에 있어서, 전극의 갯수는 3 내지 30 개인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서, 탐침 분자는 상기 중앙 전극에 고정되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 6 |
6 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전극들에 인가된 전압들은 -10V 내지 +10V 인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 7 |
7 제 5 항에 있어서, 상기 탐침은 DNA, RNA, 효소 또는 단백질들로부터 선택된 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 8 |
8 제 1 항에 있어서, 중앙 전극은 중앙 전극내에 있으면서 중앙 전극으로부터 전기적으로 절연된 하나 또는 그 이상의 내측 전극을 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 9 |
9 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전극에 의해서 발생된 전기장은 시계 방향 또는 시계 반대 방향의 방식으로 회전하도록 되고, 상기 회전은 전극 전압의 규칙적인 전진에 의해서 수행되며 여기에서 주어진 전극에서의 전압은 이전의 시간 간격에서 근접한 전극의 값과 같게 설정되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 10 |
10 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전기장의 진폭 및, 회전 주파수는 상이한 전기 영동의 운동성을 가지는 이온 종(species)들을 분리시키는 방식으로 변조되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 11 |
11 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전기장의 회전 주파수는 0 |
| 12 |
12 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 만들어진 전기장은 전자적인 트랩을 만들도록 구성되며 대전된 분자는 그것을 통해서 트랩에 들어갈 수 없는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 13 |
13 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전기장은 특정 대전 분자가 트랩으로 들어갈 수 있는 방식으로 일시적으로 재 구성될 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 14 |
14 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 대전 분자는 생물학적 반응과 관련된 DNA, RNA, 단백질 또는 효소들로부터 선택된 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 15 |
15 제 14 항에 있어서, 생물학적 반응은 핵산 혼성화, 핵산 증폭, 샘플 준비, 항체/항원 반응, 임상학적 진단 또는 생물 폴리머 합성을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 16 |
16 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 반응 유니트내 온도는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 17 |
17 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 반응 유니트내 pH 는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 18 |
18 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 반응 유니트내 이온 농도는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 19 |
19 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 매질은 공통의 버퍼 용액이거나 또는 다공성 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 20 |
20 제 1 항에 있어서, 침투 층과 결합 층은 상기 중앙 전극상에서 형성되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 21 |
21 제 20 항에 있어서, 상기 침투층은 알칸티올 또는 다공성 물질의 자기 조립된 단분자층인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 22 |
22 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 전극은 금, 은, 동 또는 알루미늄으로부터 선택된 전기적으로 도전성인 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 23 |
23 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기판은 유리, 실리콘 또는 세라믹으로부터 선택된 전기적으로 절연된 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 24 |
24 제 1 항에 있어서, 외측 전극들의 배치는 폐쇄된 시스템인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 25 |
25 제 2 항에 있어서, 전극의 배치는 폐쇄된 시스템인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 26 |
26 기판; 기판상에 장착된 중앙 전극; 기판상에서 중앙 전극을 둘러싸는 복수개의 외측 전극; 및, 대전 분자에 마찰 저항을 제공하며, 기판상의 중앙 전극과 외측 전극들을 덮는 매질;을 가지는 적어도 하나의 유니트를 구비하고, 분자 위치는 전극에 인가된 전압 크기를 변화시킴으로써 발생된 전기장을 회전시킴으로써 제어되고, 선택된 전극에 인가된 전압에 의해서 발생된 반응 유니트에 걸친 순전하는 제로에서 유지되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치를 제어하는 장치 |
| 27 |
27 기판; 기판상의 복수개의 전극; 및, 대전 입자에 마찰 저항을 제공하고 기판상의 전극을 덮는 매질;을 가지는 적어도 하나의 반응 유니트를 구비하고, 분자의 위치는 전극에 인가된 전압의 크기를 변화시킴으로써 발생된 전기장을 회전시킴으로써 제어되고, 선택된 전극에 인가된 전압에 의해서 발생된, 반응 유니트에 걸친 순전하는 제로에서 유지되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 28 |
28 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 기판상의 외측 전극을 둘러싸는 외측 링을 더 구비하고, 외측 링은 상기 반응 유니트에 걸쳐서 상기 전극들에 인가되는 전압에 의해서 발생된 전기장이 퍼지는 것을 감소시키는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 29 |
29 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 복수개의 전극의 갯수는 3 내지 30 개인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 30 |
30 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 전극 배치의 기하는 원형, 사각형 또는 다이아몬드 형상과 같은 폐쇄 시스템인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 31 |
31 제 26 항에 있어서, 탐침 분자는 상기 중앙 전극에 고정되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 32 |
32 제 31 항에 있어서, 상기 탐침은 DNA, RNA, 효소 또는 단백질들로부터 선택된 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 33 |
33 제 26 항에 있어서, 중앙 전극은 중앙 전극내에 있으면서 중앙 전극으로부터 전기적으로 절연된 하나 또는 그 이상의 내측 전극을 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 34 |
34 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 전극에 의해서 발생된 전기장은 시계 방향 또는 시계 반대 방향의 방식으로 회전하도록 되고, 상기 회전은 전극 전압의 규칙적인 전진에 의해서 수행되며 여기에서 주어진 전극에서의 전압은 이전의 시간 간격에서 근접한 전극의 값과 같게 설정되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 35 |
35 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 전기장의 진폭 및, 회전 주파수는 상이한 전기 영동의 운동성을 가지는 이온 종(species)들을 분리시키는 방식으로 변조되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 36 |
36 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 만들어진 전기장은 전자적인 트랩을 만들도록 구성되며 대전된 분자는 그것을 통해서 트랩에 들어갈 수 없는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 37 |
37 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 전기장은 특정 대전 분자가 트랩으로 들어갈 수 있는 방식으로 일시적으로 재 구성될 수 있는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 38 |
38 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 대전 분자는 생물학적 반응과 관련된 DNA, RNA, 단백질 또는 효소들로부터 선택된 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 39 |
39 제 38 항에 있어서, 생물학적 반응은 핵산 혼성화, 핵산 증폭, 샘플 준비, 항체/항원 반응, 임상학적 진단 또는 생물 폴리머 합성을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 40 |
40 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 반응 유니트내 온도는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 방법 |
| 41 |
41 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 반응 유니트내 pH 는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 42 |
42 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 반응 유니트내 이온 농도는 점진적으로 증가하거나 또는 감소되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 43 |
43 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 상기 매질은 공통의 버퍼 용액이거나 또는 다공성 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 44 |
44 제 26 항에 있어서, 침투 층과 결합 층은 상기 중앙 전극상에서 형성되는 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 45 |
45 제 44 항에 있어서, 상기 침투층은 알칸티올 또는 다공성 물질의 자기 조립된 단분자층인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 46 |
46 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 상기 전극은 금, 은, 동 또는 알루미늄으로부터 선택된 전기적으로 도전성인 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 47 |
47 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서, 상기 기판은 유리, 실리콘 또는 세라믹으로부터 선택된 전기적으로 절연된 물질인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 48 |
48 제 26 항에 있어서, 외측 전극들의 배치는 폐쇄된 시스템인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 49 |
49 제 27 항에 있어서, 전극의 배치는 폐쇄된 시스템인 것을 특징으로 하는 대전 분자의 공간 위치 제어 장치 |
| 50 |
50 기판, 기판상의 중앙 전극 및, 기판상의 중앙 전극을 둘러싸는 복수개의 외측 전극을 가지는 반응 유니트를 구비하고, 상기 중앙 전극은 상기 외측 전극들로부터 1 내지 100 마이크론의 거리로 분리되고, 반응을 위한 결합 실체물을 가진 침투층은 상기 중앙 전극상에 배치되고, 접지된 외측 링 전극은 상기 반응 유니트에 걸쳐 상기 전극에 인가된 전압에 의해서 발생된 전기장의 펼쳐짐을 감소시키도록 상기 반응 유니트를 감싸는 것을 특징으로 하는 전극들 사이의 반응을 위한 장치 |
| 51 |
50 기판, 기판상의 중앙 전극 및, 기판상의 중앙 전극을 둘러싸는 복수개의 외측 전극을 가지는 반응 유니트를 구비하고, 상기 중앙 전극은 상기 외측 전극들로부터 1 내지 100 마이크론의 거리로 분리되고, 반응을 위한 결합 실체물을 가진 침투층은 상기 중앙 전극상에 배치되고, 접지된 외측 링 전극은 상기 반응 유니트에 걸쳐 상기 전극에 인가된 전압에 의해서 발생된 전기장의 펼쳐짐을 감소시키도록 상기 반응 유니트를 감싸는 것을 특징으로 하는 전극들 사이의 반응을 위한 장치 |
| 번호 | 국가명 |
|---|---|
| 1 | 가나,케냐,수단,시에라리온,스와질랜드,탄자니아,우간다,짐바브웨 |
| 2 | 아르메니아,아제르바이잔,벨라루스,키르키즈스탐,카자흐스탄,몰도바,러시아,타지키스탄 |
| 3 | 오스트리아,벨기에,스위스,사이프러스,독일,덴마크,스페인,핀란드,프랑스,영국,그리스,아일랜드,이탈리아,리히텐슈타인,룩셈부르크,모나코,네덜란드,포르투칼,스웨덴,터어키 |
| 4 | 부르키나파소,베닌,중앙아프리카,콩고,코트디브와르,카메룬,가봉,모리타니,니제르,세네갈,토고 |
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | WO2002103061 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
DOCDB 패밀리 정보
| 순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | US2005040042 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0473815-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20030213 출원 번호 : 1020037002116 공고 연월일 : 20050314 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20050128 청구범위의 항수 : 50 유별 : C12Q 1/68 발명의 명칭 : 대전 분자의 공간 위치 제어를 위한 전기적 장치 및, 방법 존속기간(예정)만료일 : 20130219 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 학교법인 포항공과대학교 경북 포항시 남구... |
| 2 |
(권리자) 한국산업기술진흥원 서울특별시 강남구... |
| 2 |
(의무자) 학교법인 포항공과대학교 경북 포항시 남구... |
| 3 |
(권리자) 학교법인 포항공과대학교 경북 포항시 남구... |
| 3 |
(의무자) 한국산업기술진흥원 서울특별시 강남구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 1,390,500 원 | 2005년 02월 21일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 1,201,000 원 | 2008년 02월 19일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 1,140,000 원 | 2009년 02월 19일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 1,140,000 원 | 2010년 01월 21일 | 납입 |
| 제 7 년분 | 금 액 | 2,000,000 원 | 2010년 02월 11일 | 납입 |
| 제 8 년분 | 금 액 | 2,000,000 원 | 2011년 12월 30일 | 납입 |
- 본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 특허법 제201조 및 제203조의 규정에 의한 서면 | 2003.02.13 | 수리 (Accepted) | 1-1-2003-0050363-60 |
| 2 | 보정통지서 | 2003.03.21 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2003-0019321-74 |
| 3 | 서지사항보정서 | 2003.03.28 | 수리 (Accepted) | 1-1-2003-5060741-33 |
| 4 | 등록결정서 | 2005.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2005-0043832-23 |
| 5 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.07.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5149263-30 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제정보가 없습니다 |
|---|
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