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하기 화학식 2로 표시되는 신규 형광 덴드리머: <화학식 2> 상기 식에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; X는 하기 화학식 4로 표시되는 것이다: <화학식 4> 여기서, Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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하기 화학식 7에 하기 화학식 6을 반응시켜 제조하는 상기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법: <화학식 7> <화학식 6> 상기 식에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; Z는 Cl, Br 및 I으로부터 선택되고; 또한 Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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제5항에 있어서, 상기 반응이 (PPh3)4Pd, (PPh3)2PdCl2, CuI, CuCl 또는 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 촉매와 Et2NH, Et3N 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 용매 및 THF, MeOH, CH2Cl2, DMF, 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 공용매의 조합을 포함하는 혼합용매의 존재하에서 제조되는 상기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법
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하기 화학식 3으로 표시되는 신규 형광 덴드리머: <화학식 3> 상기 식에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; X는 하기 화학식 4로 표시되는 것이다: <화학식 4> 여기서, Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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하기 화학식 8에 하기 화학식 6을 반응시켜 제조하는 상기 화학식 3의 신규 형광 덴드리머 제조방법: <화학식 8> <화학식 6> 상기 식에 있어서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; Z는 Cl, Br 및 I으로부터 선택되고; 또한 Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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제8항에 있어서, 상기 반응이 (PPh3)4Pd, (PPh3)2PdCl2, CuI, CuCl 또는 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 촉매와 Et2NH, Et3N 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 용매 및 THF, MeOH, CH2Cl2, DMF, 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 공용매의 조합을 포함하는 혼합용매의 존재하에서 제조되는 상기 화학식 3의 신규 형광 덴드리머 제조방법
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하기 화학식 9에 하기 화학식 5를 반응시켜 제조하는 하기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법: <화학식 9> <화학식 5> <화학식 2> 상기 식에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; Z는 Cl, Br 및 I으로부터 선택되고; 또한 X는 하기 화학식 4로 표시되는 것이다: <화학식 4> 여기서, Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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제10항에 있어서, 상기 반응이 (PPh3)4Pd, (PPh3)2PdCl2, CuI, CuCl 또는 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 촉매와 Et2NH, Et3N 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 용매 및 THF, MeOH, CH2Cl2, DMF, 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 공용매의 조합을 포함하는 혼합용매의 존재하에서 제조되는 상기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법
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하기 화학식 9에 하기 화학식 7을 반응시켜 제조하는 하기 화학식 3의 신규 형광 덴드리머 제조방법: <화학식 9> <화학식 7> <화학식 3> 상기 식에서, A는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴렌기를 나타내고; X'는 탄소수 6 내지 30의 아릴기이고; Z는 Cl, Br 및 I으로부터 선택되고; 또한 X는 하기 화학식 4로 표시되는 것이다: <화학식 4> 여기서, Y는 수소, 포르밀기, 아세틸기, 아미드기, 아민기, 에테르기, 또는 카르복실기로부터 선택된다
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제12항에 있어서, 상기 반응이 (PPh3)4Pd, (PPh3)2PdCl2, CuI, CuCl 또는 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 촉매와 Et2NH, Et3N 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 용매 및 THF, MeOH, CH2Cl2, DMF, 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 공용매의 조합을 포함하는 혼합용매의 존재하에서 제조되는 상기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 반응이 (PPh3)4Pd, (PPh3)2PdCl2, CuI, CuCl 또는 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상의 촉매와 Et2NH, Et3N 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 용매 및 THF, MeOH, CH2Cl2, DMF, 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 공용매의 조합을 포함하는 혼합용매의 존재하에서 제조되는 상기 화학식 2의 신규 형광 덴드리머 제조방법
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