[KST2019004724][포항공과대학교 산학협력단] |
마이크로파 가열을 이용한 전이금속 텔루라이드 박막의 제조방법 |
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[KST2019034684][포항공과대학교 산학협력단] |
절연체-금속 전이 소자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 어플리케이션 |
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[KST2022003289][포항공과대학교 산학협력단] |
칼코겐 원소로 도핑된 요오드화 구리 박막 및 이의 제조 방법 |
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[KST2015186462][포항공과대학교 산학협력단] |
화학증착에의한개구충전방법 |
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[KST2015186686][포항공과대학교 산학협력단] |
펄스 주입형 유기 금속 화학 증착법을 이용한 구리 박막제조 방법 |
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[KST2014058703][포항공과대학교 산학협력단] |
반도체 소자의 스캘롭 제거방법 및 그 반도체 소자 |
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[KST2018000659][포항공과대학교 산학협력단] |
금속 기판 패터닝을 통한 질화붕소 화합물 반도체의 선택적 영역 성장 방법(METHOD FOR SITE-CONTROLLED GROWTH OF BORON NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR BY USING PATTERNED METAL SUBSTRATE) |
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[KST2014058812][포항공과대학교 산학협력단] |
정렬된 구리 나노선을 이용한 대면적의 구리 나노선 전극 어레이의 제조방법 |
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[KST2014058811][포항공과대학교 산학협력단] |
정렬된 금속 나노선을 이용한 대면적의 금속 나노선 전극 어레이의 제조방법 |
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[KST2014064007][포항공과대학교 산학협력단] |
정렬된 금속 나노섬유를 이용한 대면적의 금속 나노섬유 전극 어레이의 제조방법 |
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[KST2016018476][포항공과대학교 산학협력단] |
이중층 구조를 가지는 저항변화메모리 및 이중층 구조를 가지는 저항변화메모리의 제조방법(Resistive switching memory with double layered structure and method of fabricating the same) |
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[KST2022021678][포항공과대학교 산학협력단] |
플래시 메모리 소자의 제조 방법 |
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[KST2015186481][포항공과대학교 산학협력단] |
저 접촉저항을 갖는 부정규형의 고전자 이동 트랜지스터 소자용옴 전극의 제조방법 |
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[KST2015186730][포항공과대학교 산학협력단] |
실리콘 게르마늄 반도체 기판에서의 저 저항 메탈 전극구조와 제조방법 |
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[KST2015169994][포항공과대학교 산학협력단] |
플라스마 질화법을 이용한 반도체 소자의 금속 실리사이드형성 방법 |
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[KST2022003288][포항공과대학교 산학협력단] |
칼코겐 원소로 도핑된 요오드화 구리 박막 및 이의 제조 방법 |
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[KST2016005190][포항공과대학교 산학협력단] |
전자 소자(ELECTRONIC DEVICE) |
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[KST2018003835][포항공과대학교 산학협력단] |
가중치 소자 및 이의 방법(Weighting Device and Method of the same) |
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