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고농도 질소 산업 폐수를 처리하기 위한 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015187235
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고농도의 질산성 질소 및 아질산성 질소 오염원을 함유한 산업 폐수를 처리하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 본 발명의 방법은 고농도의 질산성 또는 아질산성 질소를 포함한 폐수를 조정조에 넣고 pH를 7.5 내지 8.0으로 조절하는 단계; 폐수를 일정 유량으로 연속회분식 반응조에 유입시키면서 탄소원을 추가하는 단계; 및 연속회분식 반응조내에서 미생물 농도(MLVSS)를 6,000 내지 8,000 mg/ℓ로, pH를 7.5 내지 8.0으로 유지시키면서 아질산의 미생물에 대한 독성을 최소화하면서 탈질 반응을 통해 질소를 제거하는 단계를 포함한다. 또한, 본 발명의 장치는 고농도의 질산성 또는 아질산성 질소를 포함한 유입 폐수의 유량을 일정하게 유지하기 위한 조정조; 조정조내의 pH 측정 및 조절 장치(약품 저장 및 공급 장치 포함); 미생물 탈질 반응에 필요한 탄소원 저장 및 공급 장치; 미생물 탈질 반응을 통한 질소 제거 역할을 하는 연속회분식 반응조; 및 연속회분식 반응조내의 pH 측정 및 조절 장치(pH 조절용 산 저장 및 공급 장치 포함)를 포함한다.
Int. CL C02F 3/28 (2006.01)
CPC C02F 3/1263(2013.01) C02F 3/1263(2013.01) C02F 3/1263(2013.01) C02F 3/1263(2013.01) C02F 3/1263(2013.01)
출원번호/일자 1019990013479 (1999.04.16)
출원인 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2000-0066396 (2000.11.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.04.16)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오재일 대한민국 경상북도포항시남구
2 박종문 대한민국 경상북도포항시남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오규환 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, ****호 (역삼동, 유니온센터)(리제특허법률사무소)
2 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원서
Patent Application
1999.04.16 수리 (Accepted) 1-1-1999-0035174-99
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.09.30 수리 (Accepted) 4-1-1999-0122834-81
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2000-0012365-15
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2000.12.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2001.01.19 수리 (Accepted) 9-1-2001-0000126-24
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2001.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0180641-96
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2001.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2001-0218618-23
8 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2001.09.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0250685-12
9 의견서
Written Opinion
2001.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2001-0250684-77
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2002.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0106281-73
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

고농도의 질산성 또는 아질산성 질소를 포함한 폐수를 조정조에 넣고 pH를 7

2 2

고농도의 질산성 또는 아질산성 질소를 포함한 유입 폐수의 유량을 일정하게 유지하기 위한 조정조; 약품 저장 및 공급 장치가 구비된, 조정조내의 pH 측정 및 조절 장치; 미생물 탈질 반응에 필요한 탄소원 저장 및 공급 장치; 미생물 탈질 반응을 통한 질소 제거 역할을 하는 연속회분식 반응조; 및, 산 저장 및 공급 장치가 구비된, 연속회분식 반응조내의 pH 측정 및 조절 장치를 포함하는, 고농도의 질산성 또는 아질산성 질소를 함유한 폐수를 처리하기 위한 장치

3 3

제2항에 있어서,

상기 연속회분식 반응조가 2개 이상 병렬로 배치된 것임을 특징으로 하는 장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.