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고전압 가속전자빔을 이용한 엔진블록용 회주철재료 의 표면경화방법

  • 기술번호 : KST2015187263
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 엔진블록용 회주철 재료의 표면 경화 방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는, 고전압 가속전자빔을 이용한 차량의 엔진 블록용 회주철 재료의 표면 경화 방법에 관한 것으로서, 2.0 내지 4.0 중량%의 탄소와 1.0내지 3.0 중량%의 실리콘 및 그 외 미량의 다른 원소를 포함하는 엔진 블록용 회주철 재료의 표면에 1.0 내지 2.5 MeV 범위의 고전압 가속전자빔을 1.2 내지 2.1 KW/㎠의 투입 에너지 밀도로 투사하는 것에 의해서 재료 표면을 마르텐사이트(martensite)변태에 의하여 경화시키며, 본 방법은 재료의 가열이 단시간에 이루어지므로 재료 표면의 산화가 방지될 수 있을 뿐만 아니라, 균일한 가열 및 냉각이 이루어지므로 기공이나 균열의 형성이 효과적으로 억제되며, 대기중에서도 작업이 가능한 동시에, 생산성이 매우 높으며, 표면 경도가 2 내지 3배 증가함에 따라 내마모성이 3 내지 4 배 향상된 0.5 내지 1.5mm 정도의 표면 경화층을 얻을 수 있는 장점이 있다.
Int. CL C21D 1/09 (2006.01.01) C21D 5/02 (2006.01.01) C21D 6/00 (2006.01.01) C22C 38/02 (2006.01.01)
CPC C21D 1/09(2013.01) C21D 1/09(2013.01) C21D 1/09(2013.01) C21D 1/09(2013.01) C21D 1/09(2013.01)
출원번호/일자 1019980019089 (1998.05.26)
출원인 기아자동차주식회사, 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자 10-0264673-0000 (2000.06.02)
공개번호/일자 10-1999-0086219 (1999.12.15) 문서열기
공고번호/일자 (20000901) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1998.05.26)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 기아자동차주식회사 대한민국 서울특별시 서초구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상호 대한민국 서울특별시 구
2 이성학 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서만규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)(특허법인성암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 기아자동차주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
2 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1998.05.26 수리 (Accepted) 1-1-1998-0060370-83
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1998.05.26 수리 (Accepted) 1-1-1998-0060372-74
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1998.05.26 수리 (Accepted) 1-1-1998-0060371-28
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.14 수리 (Accepted) 4-1-1999-0005580-12
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.08.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0107675-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.09.30 수리 (Accepted) 4-1-1999-0122834-81
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2000.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0004754-28
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2000-0012365-15
9 의견서
Written Opinion		 2000.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2000-5052650-30
10 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.02.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-5052651-86
11 등록사정서
Decision to grant		 2000.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0048813-44
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.12.16 수리 (Accepted) 4-1-2000-0159143-33
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.08.03 수리 (Accepted) 4-1-2001-0094196-29
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2006.05.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-5072575-37
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5076294-75
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2010-5007856-87
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2010-5007920-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.10.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5222831-58
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2013-0000510-63
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.18 수리 (Accepted) 4-1-2017-5150878-54
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.09.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5179063-18
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2019-5150191-76
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

2

2 2

제1항에 있어서, 상기한 고전압 가속전자빔의 에너지가 대기중에서 투과 가능한 1

3 3

제2항에 있어서, 상기한 고전압 가속전자빔의 투입 에너지 밀도가 1

4 4

제1항에 있어서, 상기한 고전압 가속전자빔을 투입 에너지 밀도 1

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.