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원자층 화학증착법을 이용한 다성분 박막의 증착

  • 기술번호 : KST2015187268
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원자층 화학증착법(ALCVD)을 이용한 다성분 박막의 증착에 관한 것으로서, ALCVD의 원료 주입 단계에서, 서로 반응성이 없는 2종 이상의 원료기체를 동시에 주입하고, 이때 상기 원료기체는 증착시키고자 하는 조성비에 해당하는 각각의 양으로 조절하여 주입됨을 특징으로 하며, 본 발명의 방법에 의하면, 목적하는 조성의 다성분 박막을 용이하고 신속하게 증착시킬 수 있다.
Int. CL H01L 21/203 (2006.01)
CPC C23C 16/45525(2013.01)
출원번호/일자 1020020046449 (2002.08.07)
출원인 학교법인 포항공과대학교
등록번호/일자 10-0486637-0000 (2005.04.22)
공개번호/일자 10-2004-0013494 (2004.02.14) 문서열기
공고번호/일자 (20050503) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.08.07)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이시우 대한민국 경상북도포항시남구
2 강상우 대한민국 서울특별시용산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오규환 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, ****호 (역삼동, 유니온센터)(리제특허법률사무소)
2 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 포항공과대학교 대한민국 경북 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2002-0254321-47
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.04.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0028204-46
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0444235-91
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2004-0617299-68
6 의견서
Written Opinion
2004.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2004-0620516-53
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.12.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0620529-46
8 등록결정서
Decision to grant
2005.02.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0062930-90
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5149263-30
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번호 청구항
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원자층 화학증착법을 이용하여 지르코늄 실리케이트 박막을 제조하는 방법에 있어서, 원료기체로서 서로 반응성이 없는 Si(N(C2H5)2)4 기체와 Zr(N(C2H5)2)4 기체를 증착시키고자 하는 조성비에 해당하는 각각의 양으로 동시에 주입하는 것을 특징으로 하는 방법
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.