1 |
1
철계 합금으로 이루어진 모재의 표면에 평균직경이 500nm 이상 200㎛ 이하인 세라믹 분말들을 200 m/s 이상 1500 m/s 이하의 속력으로 충돌시켜 상기 모재 표면의 조도를 조절하는 단계; 및상기 모재 표면에 전착막을 형성하는 단계를 포함하고,상기 모재 표면의 조도는 상기 세라믹 분말들의 충돌에 의한 침식으로 1
|
2 |
2
철계 합금으로 이루어진 모재의 표면에 평균직경이 500nm 이상 200㎛ 이하인 세라믹 분말들을 200 m/s 이상 1500 m/s 이하의 속력으로 충돌시켜 상기 모재 표면의 조도를 조절하는 단계; 및상기 모재 표면에 전착막을 형성하는 단계를 포함하고,상기 전착막은 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 전착막 형성방법
|
3 |
3
철계 합금으로 이루어진 모재의 표면에 평균직경이 500nm 이상 200㎛ 이하인 세라믹 분말들을 200 m/s 이상 1500 m/s 이하의 속력으로 충돌시켜 상기 모재 표면의 조도를 조절하는 단계; 및상기 모재 표면에 전착막을 형성하는 단계를 포함하고,상기 모재 표면의 조도를 조절하는 단계는,평균 직경이 50㎛ 내지 200㎛인 제1 세라믹 분말들을 상기 모재 표면에 충돌시키는 단계; 및상기 제1 세라믹 분말들의 충돌 후 평균 직경이 500nm 내지 50㎛인 제2 세라믹 분말들을 상기 모재 표면에 충돌시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전착막 형성방법
|
4 |
4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세라믹 분말들은 알루미나, 질화알루미늄, 이트리아(Yttria), 야그(yttria aluminium garnet, YAG), 지르코니아, 실리카, 탄화규소, 질화규소, 탄화붕소, 질화붕소, 인산칼슘산화물 및 이산화티타늄으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 단일 분말 또는 혼합 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 전착막 형성방법
|
5 |
5
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 분말들은 상기 모재 표면으로부터 5mm 내지 100mm 이격된 위치에 배치된 분사노즐을 포함하는 고속 분사장치에 의해 분사되고,상기 고속 분사장치는 20℃ 내지 700℃인 운반가스를 0
|
6 |
6
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세라믹 분말들은 상기 모재 표면에 대해 30° 내지 90°로 경사지게 충돌하는 것을 특징으로 하는 전착막 형성방법
|
7 |
7
삭제
|