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입자의 정렬층이 형성된 제 1 기재와 제 2 기재를 접촉시켜 상기 입자의 정렬층을 상기 제 2 기재로 전사(transfer)하는 단계;상기 제 2 기재 상에 전사된 입자의 정렬층을 박막 형성 물질로 코팅하여 입자-박막 복합체를 형성하는 단계;상기 복합체 중 박막 형성 물질의 일부를 제거하여 상기 입자를 노출시킨 후 상기 노출된 입자를 제거하여 홀(hole)을 가지는 주형(template)을 형성하는 단계; 및상기 주형의 홀 표면에 제 1 물질을 코팅한 후 상기 주형을 제거하여 보울(bowl)-형태의 구조체를 형성하는 단계:를 포함하는, 보울(bowl)-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 물질은 금속, 반도체, 금속산화물, 합금 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 주형의 홀 표면에 상기 제 1 물질의 코팅은 스퍼터링, 열증착법(thermal evaporation), 펄스 레이저 증착법(pulsed laser deposition; PLD), 원자층 증착법(atomic layer deposition; ALD), 이온보조증착법(ion assisted deposition; IAD) 또는 자기조립법에 의해 수행되는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 홀 표면에 코팅된 제 1 물질 상에 제 2 물질을 코팅하는 것을 1 회 이상 수행하는 것을 추가 포함하는, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 제 2 물질은 금속, 반도체, 금속산화물, 합금 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재는 그의 표면에 형성된 제 1 음각 또는 제 1 양각의 패턴을 가지는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재 및 상기 제 2 기재 중 하나 또는 둘 다는 그의 표면에 각각 점착층이 형성되어 있는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 주형은 규칙적으로 배열되어 있는 홀을 가지는 다공성 박막 구조를 가지는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 입자의 크기는 10 nm 내지 100 ㎛ 인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 물질의 코팅에 의해 형성되는 코팅층의 두께는 1 nm 내지 10 ㎛인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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11
제 1 항에 있어서, 상기 입자의 정렬층은 상기 제 1 기재 상에 복수의 입자를 올린 후, 상기 입자에 물리적 압력을 가하여 형성된 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 물리적 압력은 문지르기(rubbing) 또는 누르기(pressing against substrate)에 의해 가해지는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 입자는 유기 고분자, 무기 고분자, 무기화합물, 금속, 자성체, 반도체, 생체물질 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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14
제 1 항에 있어서, 상기 보울-형태 구조체의 지름과 깊이의 비율을 나타내는 종횡비는 0
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제 1 항에 있어서, 상기 보울-형태 구조체는 복수개의 상기 보울-형태의 구조체를 포함하며, 상기 복수개의 보울-형태 구조체 각각은 일정 간격을 가지고 규칙적으로 배열되는 것인, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 형성된 보울-형태의 구조체를 다공성 기판 상에 전사하는 단계를 추가 포함하는, 보울-형태 구조체의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 보울-형태의 구조체
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일정한 간격으로 규칙적으로 배열되는 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 복수개의 보울-형태의 구조체를 포함하는, 보울 어레이
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