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전도성 고분자 복합체용 조성물로서,전도성 1차원 나노입자; 고분자 매트릭스 수지; 및 상기 전도성 고분자 복합체용 조성물의 성형시 상기 전도성 1차원 나노입자가 퍼콜레이션 네트워크를 유지하게 하는, 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자를 포함하고,상기 고분자 매트릭스 수지 내에 상기 전도성 1차원 나노입자 및 상기 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자가 분산되고,상기 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자는 실리카(silica)이고,상기 전도성 1차원 나노입자는 탄소나노튜브이고,상기 전도성 1차원 나노입자 사이에 상기 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자가 존재하는, 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 전도성 1차원 나노입자는 1-100 ㎚ 범위의 직경과 100-1,000 ㎚ 범위의 길이를 갖는 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 전도성 1차원 나노입자는 10-1,000 의 종횡비를 갖는 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 전도성 1차원 나노입자는 상기 조성물에 대하여 0
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제1 항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 수지는 폴리 프로필렌, 폴리 메틸 메타크릴레이트, 폴리 스티렌, 폴리 비닐 클로라이드, 나일론, 에폭시 수지, 페놀-포름알데하이드, 아미노 수지, 폴리 테트라플루오로페닐렌, 폴리 우레탄 또는 폴리 에테르 에테르 케톤을 포함하는 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자는 10nm 내지 200nm의 직경을 갖는 나노입자인 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 퍼콜레이션 네트워크 유지용 나노입자의 함량은 상기 조성물에 대하여 1-15 부피 %인 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 또는 이들의 혼합물인 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 탄소나노튜브의 함량은 상기 조성물에 대하여 0
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제1 항에 있어서, 상기 실리카는 100nm 내지 200nm의 직경을 갖는 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항에 있어서, 상기 실리카의 함량은 상기 조성물에 대하여 1-15 부피 % 인 전도성 고분자 복합체용 조성물
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제1 항, 제3 항 내지 제6 항, 제8 항, 제9 항, 제11 항 내지 제14 항 중 어느 한 항의 전도성 고분자 복합체용 조성물을 성형하는 단계를 포함하는 전도성 고분자 복합체의 형성 방법
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제16 항에 있어서, 상기 성형 단계는 사출성형, 압출 성형, 이송 성형, 또는 섬유 방사를 포함하는 전도성 고분자 복합체의 형성 방법
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제16 항에 있어서, 상기 성형 단계는 90-200℃의 온도에서 수행되는 전도성 고분자 복합체의 형성 방법
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제17 항에 있어서, 상기 성형 단계가 사출성형에 의한 경우, 사출 속도는 1-1,000 rpm의 회전 속도로 수행되는 전도성 고분자 복합체의 형성 방법
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