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3차원 다공성 유·무기 복합 구조체, 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015187924
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본원은, 무기물이 포함된 유·무기 복합 포토레지스트 용액을 제조하는 단계; 상기 용액을 기재 상에 도포하여 상기 무기물이 포함된 유·무기 복합 포토레지스트 층을 형성하는 단계; 및 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체, 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL C04B 38/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) C04B 35/01 (2006.01)
CPC G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01)
출원번호/일자 1020130040580 (2013.04.12)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1430982-0000 (2014.08.11)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.12)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문준혁 대한민국 서울 양천구
2 강다영 대한민국 인천 남동구
3 김영찬 대한민국 경기 부천시 원미구
4 이선복 대한민국 대전 중구
5 유영철 대한민국 경기 안산시 단원구
6 이성호 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 서울특별시 마포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0321494-67
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2013-0103970-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0023886-20
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.03.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0224694-28
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.03.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0224693-83
7 등록결정서
Decision to grant
2014.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0502246-88
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
무기물이 포함된 유·무기 복합 포토레지스트 용액을 제조하는 단계;상기 용액을 기재 상에 도포하여 상기 무기물이 포함된 유·무기 복합 포토레지스트 층을 형성하는 단계;상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 3차원 광간섭 패턴이 조사된 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층을 현상(developing)하는 것을 포함하는, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법으로서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체는, 상기 유·무기 복합 포토레지스트의 내부에 분산된 상기 무기물을 함유하며, 3차원적으로 배열되어 있으며 서로 연결된 기공을 가지며, 상기 3차원 광간섭 패턴은, 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 광로차를 갖는 복수의 간섭성 평행광을 조사하여 형성되는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 유·무기 복합 포토레지스트 용액을 제조하는 단계는, 유기 포토레지스트를 함유하는 용액에 무기물이 분산된 용액을 첨가하여 혼합되는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 무기물은, 실리카, 티타니아, 지르코니아, 알루미나, 산화 주석(SnO2), 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
4 4
제 2 항에 있어서,상기 유기 포토레지스트는 SU-8, PGMA [poly(glycidylmethacrylate)], 솔-젤 복합체 (Sol-gel composities), POSS (polyhedral oligomeric silsesquiozanes), PHEMA [poly(2-hydroxyethyl methacrylate)], 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
5 5
삭제
6 6
제 2 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 무기물 농도는, 상기 유기 포토레지스트의 농도에 의하여 조절될 수 있는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴의 기공 크기는, 상기 조사되는 간섭성 평행광의 조사 세기, 조사 방향, 조사 각도, 또는 조사 시간에 의해 조절되는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
10 10
제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴은, 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 3차원의 기공이 규칙적으로 배열된 3차원 브라베 격자(Bravais lattice) 구조를 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
11 11
제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는, 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 서로 상이한 주기를 갖는 2 개 이상의 3차원 광간섭 패턴을 중첩 조사하여 상기 유·무기 복합 포토레지스트 층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴의 두께는 10 nm 내지 10 ㎛인 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
13 13
제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴이 가지는 기공의 크기는 10 nm 내지 10 ㎛ 크기를 갖는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 유·무기 복합 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는, 투명한 포토레지스트 필름을 형성하여 레이저 입사 시 산란을 줄이는 것을 포함하는 것인, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 4 항, 제 6 항, 및 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되는, 3차원 다공성 유·무기 복합 구조체로서,유·무기 복합 포토레지스트의 내부에 분산된 무기물을 포함하며, 3차원적으로 균일하게 배열되어 있으며 서로 연결된 기공을 가지는 것인,3차원 다공성 유·무기 복합 구조체
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국생산기술연구원 산업융합기술산업원천기술개발사업 유무기 복합 나노구조체 제작기술