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다음 화학식 1로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체 :[화학식 1]상기 화학식 1에서, Y는 하이드록시기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 아민기, 또는 탄소수 1 내지 6의 아실아미노기를 나타내고, n은 치환기 Y의 개수로서 1 내지 4의 정수를 나타내고, 또는 서로 이웃하는 치환기 Y가 서로 결합하여 6각형의 융합고리(fused ring)를 형성할 수도 있다
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제 1 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이레티닐 3,4,5-트리하이드록시벤조에이트,레티닐 2-하이드록시-3-메톡시벤조에이트,레티닐 2-하이드록시-5-메톡시벤조에이트,레티닐 2-하이드록시-6-메톡시벤조에이트,레티닐 2,3-디하이드록시벤조에이트,레티닐 2,4-디하이드록시벤조에이트,레티닐 2,5-디하이드록시벤조에이트,레티닐 2,6-디하이드록시벤조에이트,레티닐 1,4-디하이드록시-2-나프토에이트, 레티닐 5-아세토아미노-2-하이드록시-3-메톡시벤조에이트 및레티닐 2,6-디하이드록시-4-메톡시벤조에이트 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물
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a) 다음 화학식 2로 표시되는 레티닐 아세테이트를 비누화 반응하여, 다음 화학식 3으로 표시되는 레티놀을 합성하는 과정과, b) 화학식 3으로 표시되는 레티놀을 다음 화학식 4로 표시되는 벤조산 유도체와 축합반응하여, 다음 화학식 1로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체를 제조하는 과정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 제조방법:[화학식 1]상기에서, Y 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같고, R은 수소원자 또는 -CH2CN 이며, R'은 수소원자, 또는 보호기이다
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제 3 항에서 있어서, 다음 화학식 4c로 표시되는 화합물과 다음 화학식 3으로 표시되는 레티놀과 축합반응시켜 올소 (ortho) 위치에 하이드록시기가 치환된 다음 화학식 1b로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 제조방법:[화학식 3]상기에서, Y 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 축합반응은 염기 조건에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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다음 화학식 4d로 표시되는 아세탈 화합물과 다음 화학식 3으로 표시되는 레티놀과 축합반응시켜, 올소 (ortho) 위치에 하이드록시기가 치환된 다음 화학식 1b로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 제조방법:[화학식 3][화학식 1b]상기에서, Y 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같고, Z 및 Z'는 각각 수소원자, 또는 전기음성기를 나타낸다
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제 6 항에 있어서, 상기 축합반응은 염기 또는 루이스 산 조건에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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다음 화학식 1로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체가 포함된 것을 특징으로 하는 주름개선 및 예방제 :[화학식 1]상기에서, Y 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
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다음 화학식 1로 표시되는 레티닐 폴리하이드록시벤조산 에스터 유도체가 포함된 것을 특징으로 하는 피부미백제 :[화학식 1]상기에서, Y 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
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