| 1 |
1
전원 공급부;상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받아 근자외선 대역의 제1 빛을 발진시키는 제1 발진기;상기 제1 빛을 외부 장치에서 제공하는 이미지 중 2차원 이미지에 맞게 송사하는 송사 유닛;상기 송사 유닛에서 송사되는 빛을 전반사시켜 소멸파를 생성시키는 프리즘; 및상기 생성된 소멸파에 의해 2차원 구조물로 경화되는 광경화성 물질을 수용한 수조를 포함하는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 2 |
2
제1항에서,상기 전원 공급부로부터 전원을 공급받아 근적외선 대역의 제2 빛을 발진시키는 제2 발진기; 및상기 제1 및 제2 빛을 하나의 빛으로 중첩시켜 상기 송사 유닛으로 보내는 빔 스플리터를 더 포함하는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 3 |
3
제2항에서,상기 송사되는 빛 중 상기 제1 빛은 상기 광경화성 물질을 경화시키고,상기 송사되는 빛 중 상기 제2 빛은 상기 광경화성 물질을 고정시키는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 4 |
4
제2항에서,상기 빔 스플리터와 상기 송사 유닛 사이에 구비되어 상기 중첩된 빛을 불연속적인 빛으로 쪼개어 상기 송사 유닛으로 보내는 디지털 셔터; 및상기 외부 장치에서 제공되는 이미지에 맞게 상기 디지털 셔터를 제어하는 셔터 제어부를 더 포함하는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 5 |
5
제1항에서,상기 수조에 구비되며 상기 2차원 구조물이 형성되는 형성판;상기 형성판을 Z축 방향으로 이동시키는 Z축 스테이지; 및 상기 2차원 구조물을 3차원 구조물로 만들기 위해 상기 외부 장치에서 제공하는 이미지 중 3차원 이미지에 맞게 상기 Z축 스테이지를 제어하는 스테이지 제어부를 더 포함하는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 6 |
6
제2항에서,상기 송사 유닛은상기 빛을 상기 프리즘을 향해 반사시키는 갈보 미러;상기 갈보 미러를 조절하여 빛을 X축 방향으로 송사하는 제1 갈보 미러 조절기;상기 갈보 미러를 조절하여 빛을 Y축 방향으로 송사하는 제2 갈보 미러 조절기; 및상기 제1 및 제2 갈보 미러 조절기를 상기 외부 장치에서 제공되는 이미지에 맞게 제어하는 갈보 제어부를 포함하는 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 7 |
7
제2항에서,상기 송사 유닛은 디지털 미러 장치 또는 실리콘 액정 표시 장치인 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 8 |
8
제2항에서,상기 제1 및 제2 발진기는 레이저인 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 9 |
9
제8항에서,상기 제1 및 제2 발진기는 펨토레이저인 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
| 10 |
10
제2항에서,상기 제1 및 제2 발진기는 LED 광원인 스테레오리소그래피를 이용한 구조물 제조 장치
|
