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탄소나노튜브 박막 후처리 공정

  • 기술번호 : KST2015188766
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고상 파우더 증착 원리에 의하여 탄소나노튜브(CNT)를 고속으로 가속시켜 모재(기판) 위에 충돌시킴으로서 독특한 탄소나노튜브 박막을 제조하고, 상기 탄소나노튜브 박막에 대한 기상, 액상, 고상 후처리 공정을 수행하여 전기전도성 등의 기능이 향상된 탄소나노튜브 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은 (a) 탄소나노튜브를 고속으로 기판에 충돌시켜 탄소나노튜브 박막을 제조하는 단계; 및 (b) 상기 탄소나노튜브 박막에 대한 후처리 단계; 로 이루어지는 탄소나노튜브 박막 후처리 공정을 제공하며, 상기 후처리 단계는 1) 전도성 물질의 액상 코팅, 2) 전도성 물질의 기상 코팅, 3) 전도성 폴리머의 접착 또는 압착 등의 방법을 통해 실현한다. 탄소나노튜브, 후처리, 헤이즈, 전기전도성, 투과율
Int. CL H01L 21/208 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C01B 32/168(2013.01)
출원번호/일자 1020090035080 (2009.04.22)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1079664-0000 (2011.10.28)
공개번호/일자 10-2010-0116398 (2010.11.01) 문서열기
공고번호/일자 (20111103) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.04.22)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조성광 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, 가산더블유센터) ****호(지본특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-0243610-32
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410357-58
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0429129-99
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.11.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.12.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0074901-71
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0583247-17
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0120587-21
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.02.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0120586-86
9 등록결정서
Decision to grant
2011.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0488398-75
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
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번호 청구항
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탄소나노튜브를 고속으로 폴리머 기판에 충돌시켜 탄소나노튜브 박막을 제조하는 단계; 및 상기 폴리머 기판과 탄소나노튜브 박막을 함께 상하에서 가압하며 연신하는 단계; 로 이루어지는 탄소나노튜브 박막 후처리 공정
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제6항에서, 상기 상기 폴리머 기판과 탄소나노튜브 박막은 요철형상의 프레스판으로 가압하여 요철형상으로 연신함을 특징으로 하는 탄소나노튜브 박막 후처리 공정
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제6항에서, 상기 폴리머 기판과 탄소나노튜브 박막은 요철형상의 롤러로 가압롤링하여 요철형상으로 연신함을 특징으로 하는 탄소나노튜브 박막 후처리 공정
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탄소나노튜브를 고속으로 기판에 충돌시켜 탄소나노튜브 박막을 제조하는 단계; 상기 탄소나노튜브 박막 위에 점착성 폴리머를 부착하는 단계; 및 상기 기판과 탄소나노튜브 박막 및 폴리머를 함께 상하에서 가압하며 연신하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 박막 후처리 공정
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