맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

대면적 고온 기체분리막의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015188780
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 대면적 고온 기체분리막의 제조 방법에 관한 것으로서, a) 복수개의 채널을 다공성 분리벽으로 분리시켜 형성하여 지지체를 준비하는 단계; b) 상기 지지체에 액상의 실리콘카아바이드 전구체를 코팅하고 경화시키는 단계; 및 c) 상기 코팅된 지지체를 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법이며, 이와 같은 본 발명에 의하면, 균일코팅하기 적합한 일정한 기공크기의 대면적 지지체를 이용함으로서 적은부피 내에 대면적의 고온기체 분리막을 균일하게 제조할 수 있다. 세라믹 전구체, 실리콘 카아바이드, 코팅, 고온 기체 분리막, 대면적 지지체, 대면적 분리막.
Int. CL B01D 53/22 (2006.01) C01B 3/50 (2006.01) B01D 69/10 (2006.01) B01D 71/00 (2006.01)
CPC B01D 67/0076(2013.01) B01D 67/0076(2013.01) B01D 67/0076(2013.01) B01D 67/0076(2013.01) B01D 67/0076(2013.01) B01D 67/0076(2013.01)
출원번호/일자 1020090077288 (2009.08.20)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1123271-0000 (2012.02.27)
공개번호/일자 10-2011-0019653 (2011.02.28) 문서열기
공고번호/일자 (20120320) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.08.20)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 권우택 대한민국 서울특별시 강남구
2 김영희 대한민국 서울특별시 서대문구
3 김수룡 대한민국 서울특별시 관악구
4 이윤주 대한민국 서울특별시 종로구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0510549-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.09.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.10.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0063774-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.05.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0235712-53
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.07.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0508804-34
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0587278-03
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.07.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0587279-48
8 등록결정서
Decision to grant		 2012.01.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0012226-91
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 분포되어 형성되는 기공의 크기를 조절하기 위해 기공제어제 또는 기공형성제를 이용하여 복수개의 채널이 다공성 분리벽으로 분리된 지지체를 형성하는 단계; b) 상기 지지체에 액상의 실리콘카아바이드 전구체를 코팅하고 경화시키는 단계; 및c) 상기 코팅된 지지체를 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 a) 단계는,상기 복수개의 채널을 서로 평행하게 형성시키되, 입구 채널과 출구 채널을 분리시켜 원통형 허니컴 형태의 실리콘카아바이드 지지체를 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 a) 단계는,상기 복수개의 채널을 서로 평행하게 형성시키되, 입구 채널과 출구 채널을 분리시켜 원통형 허니컴 형태의 코디얼라이트 지지체를 형성시키는 단계 및상기 코디얼라이트 지지체를 보헤마이트 졸 용액에 함침하여 γ-알루미나의 중간층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 a) 단계는,평판의 실리콘카아바이드 시트 위에 서로 평행한 복수개의 굴곡을 형성시킨 실리콘카아바이드 시트를 위치시켜 단층의 시트를 준비하는 단계; 및 서로 굴곡 방향이 교차되도록 상기 단층의 시트를 순차적으로 적층시켜 적층형 실리콘카아바이드 지지체를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
5 5
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 b) 단계는,실리콘카아바드 전구체를 유기용매에 녹인 후 함침, 스프레이 또는 스핀 코팅 방식 중 어느 하나의 방식으로 코팅하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 실리콘카아바드 전구체는, 폴리페닐카보실란, 아릴하이드리도 폴리카보실란 또는 알킬하이드리도폴리페닐카보실란 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 실리콘카아바드 전구체의 분자량은 1000 내지 3000인 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
8 8
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 b) 단계는,200℃ 내지 300℃의 경화온도로 공기 중에서 불용화 공정을 실시하며,상기 c) 단계는,불활성 가스 분위기 또는 진공 분위기에서 열처리의 온도를 800℃ 내지 1300℃로 유무기전환 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 세라믹 기체분리막 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.