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투과도 측정 장치

  • 기술번호 : KST2015188781
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 세라믹과 같은 시료의 투과도를 측정하는 장치를 개시하며, 투과도 측정 장치는 고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 상기 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치, 펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 상기 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치, 세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버, 상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함한다.
Int. CL G01N 33/38 (2006.01) G01N 21/59 (2006.01)
CPC G01N 21/59(2013.01)G01N 21/59(2013.01)G01N 21/59(2013.01)G01N 21/59(2013.01)
출원번호/일자 1020090101069 (2009.10.23)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1110370-0000 (2012.01.19)
공개번호/일자 10-2011-0044417 (2011.04.29) 문서열기
공고번호/일자 (20120216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.23)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조우석 대한민국 서울특별시 광진구
2 황광택 대한민국 서울특별시 강동구
3 김응수 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고길수 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **, *층 (서초동)(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0649776-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.05.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.06.16 수리 (Accepted) 9-1-2011-0049902-75
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.08.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0450245-75
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0736973-78
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.09.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0736969-95
7 등록결정서
Decision to grant		 2012.01.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0001303-51
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
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번호 청구항
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고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치;펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치;세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버;상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버; 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고,상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱하며, 상기 고압 챔버는,원통형상을 가지며 상기 제1 개방면이 형성되고 측면에 가스의 공급을 위한 제1 관통구가 형성되는 제1 챔버; 및링 형상을 가지며 상기 제1 챔버의 상기 제1 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제1 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제1 오링들이 설치되는 제1 개스킷을 포함하는 투과도 측정 장치
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제8항에 있어서, 상기 고압 제공 장치는,고압의 가스가 수용된 적어도 하나 이상의 가스 용기;상기 가스 용기에서 공급되는 가스가 충진되는 제1 버퍼 챔버;상기 가스 용기와 상기 제1 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제1 배관 상에 형성되는 제1 밸브;상기 제1 버퍼 챔버와 상기 고압 챔버 사이를 연결하는 제2 배관 상에 형성되는 제2 밸브;상기 제1 버퍼 챔버에 설치되는 상기 제1 바라트론 게이지; 및상기 제1 버퍼 챔버와 상기 제2 밸브 사이의 상기 제2 배관에 설치되는 제1 디지털 게이지를 포함하며,상기 고압 챔버로 가스를 공급하기 위하여 상기 제1 및 제2 밸브가 열리고, 상기 센싱을 위하여 상기 제1 밸브는 닫히고 상기 제2 밸브는 열린 상태를 유지하는 투과도 측정 장치
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제9항에 있어서, 상기 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하는 투과도 측정 장치
11 11
제9항에 있어서, 상기 가스 용기는 상기 제1 밸브에 대하여 병렬로 둘 이상 연결되며, 각 가스 용기는 공기, 질소 가스, 아르곤 가스 및 수소 가스 중 어느 하나를 수용하며 서로 다른 가스를 수용하는 투과도 측정 장치
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제8항에 있어서, 상기 고압 제공 장치는 1000 Torr 내지 1100 Torr의 범위로 상기 고압 챔버에 상기 고압을 제공하는 투과도 측정 장치
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제8항에 있어서, 상기 진공 제공 장치는,상기 가스를 펌핑하는 진공 펌프;상기 진공 챔버에서 펌핑되는 가스가 충진되는 제2 버퍼 챔버;상기 진공 펌프와 상기 제2 버퍼 챔버 사이를 연결하는 제3 배관 상에 형성되는 제3 밸브;상기 제2 버퍼 챔버와 상기 진공 챔버 사이를 연결하는 제4 배관 상에 형성되는 제4 밸브;상기 제2 버퍼 챔버에 설치되는 제2 바라트론 게이지; 및상기 제2 버퍼 챔버와 상기 제4 밸브 사이의 상기 제4 배관에 설치되는 제2 디지털 게이지를 포함하며,상기 진공 챔버에서 가스를 펌핑하기 위하여 상기 제3 및 제4 밸브가 열리고 상기 센싱을 위하여 상기 제3 밸브는 닫히고 상기 제4 밸브는 열린 상태를 유지하는 투과도 측정 장치
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제8항에 있어서, 상기 진공 제공 장치는 0
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고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치;펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치;세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버;상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버; 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고,상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱하며, 상기 진공 챔버는,원통형상을 가지며 상기 제2 개방면이 형성되고 측면에 진공 펌핑을 위한 제2 관통구가 형성되는 제2 챔버; 및링 형상을 가지며 상기 제2 챔버의 상기 제2 개방면의 입구에 삽입되고 상기 제2 챔버의 입구와 접하는 면과 상기 세라믹 시료와 접하는 이면에 각각 제2 오링들이 설치되는 제2 개스킷을 포함하는 투과도 측정 장치
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고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치;펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치;세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버;상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버; 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고,상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱하며, 상기 고정 장치는,직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 진공 챔버에 고정되며 상기 진공 챔버에 대하여 복수개 설치되는 제1 유동 실린더들이 설치되는 제1 수직 패널;직선 방향으로 인출 및 수축 가능하고 일단이 상기 고압 챔버에 고정되며 상기 고압 챔버에 대하여 복수 개 설치되는 제2 유동 실린더들이 설치되고 중앙에 나사가 형성된 제3 관통공이 형성되는 제2 수직 패널;상기 제1 및 제2 수직 패널의 서로 대응되는 모서리들 사이에 배치되어서 길이 방향 양단이 상기 제1 및 제2 수직 패널과 결합되는 수평 빔들;상기 제1 유동 실린더에 끼워져서 상기 진공 챔버에 탄성력을 제공하는 스프링들;상기 고압 챔버와 접하는 쪽이 넓은 제4 관통공이 중앙에 형성되고 상기 제4 관통공에 베어링이 결합되며 상기 제2 유동 실린더들의 단부와 상기 고압 챔버 사이에 고정되는 회전지지판; 및측면에 상기 제3 관통구와 치합되는 나사가 형성되고 일단이 상기 베어링에 결합되어 상기 제2 수직패널의 상기 제3 관통공을 관통하여 소정 길이 돌출되는 샤프트 및 상기 샤프트의 타단에 구성되는 손잡이를 포함하며 상기 손잡이의 회전에 의하여 상기 샤프트와 상기 제2 수직 패널의 상기 제3 관통공 간의 치합에 의하여 직선 방향 구동력이 발생하여 상기 고압 챔버를 구동하는 구동부를 포함하는 투과도 측정 장치
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고압의 가스를 공급하여 고압을 제공하며 상기 가스를 공급하는 라인 중에 고압 센싱용 제1 바라트론(Baratron) 게이지를 구비하는 고압 제공 장치;펌핑에 의하여 진공을 제공하며 펌핑 라인 중에 진공 센싱용 제2 바라트론 게이지를 구비하는 진공 제공 장치;세라믹 시료의 일면과 밀착되는 제1 개방면을 가지며 상기 고압 제공 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 일면에 고압을 형성하는 고압 챔버;상기 세라믹 시료가 배치되는 제2 개방면을 가지며 상기 진공 형성 장치에 의하여 상기 세라믹 시료의 다른 일면에 진공을 형성하는 진공 챔버; 및 상기 제1 및 제2 개방면이 서로 마주하도록 이격 배치되는 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버를 지지하며 상기 제1 및 상기 제2 개방면이 이들 사이에 배치되는 세라믹 시료와 접하여 기밀 상태가 유지되도록 상기 고압 챔버 및 상기 진공 챔버 중 적어도 어느 하나를 직선 왕복시키는 고정 장치를 포함하고,상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력차에 의하여 상기 가스가 상기 세라믹 시료를 투과함에 따라 발생되는 상기 고압 챔버와 상기 진공 챔버 내부의 압력 변화를 상기 제1 및 제2 바라트론 게이지로 센싱하며, 상기 세라믹 시료는 테두리에 에폭시 수지로 캡을 형성하여서 상기 고압 챔버의 상기 제1 개방면과 상기 진공 챔버의 상기 제2 개방면 사이에 배치되는 투과도 측정 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.