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증착챔버;상기 증착챔버 내에 배치되는 관형 지지체;상기 증착챔버 내에 배치되며 상기 관형 지지체 표면으로 증착하고자 하는 제1 물질을 공급하기 위한 제1 타겟; 상기 제1 타겟을 차폐하기 위한 제1 셔터;상기 제1 셔터를 구동하기 위한 제1 구동수단;상기 증착챔버 내에 배치되며 상기 관형 지지체 표면으로 증착하고자 하는 제2 물질을 공급하기 위한 제2 타겟; 상기 제2 타겟을 차폐하기 위한 제2 셔터;상기 제2 셔터를 구동하기 위한 제2 구동수단;상기 제1 타겟에 전압을 공급하기 위한 제1 전원공급부; 상기 제2 타겟에 전압을 공급하기 위한 제2 전원공급부; 및상기 증착챔버 내에 플라즈마 형성을 위한 가스를 공급하기 위한 가스공급수단을 포함하며, 상기 관형 지지체가 장착되는 홀더의 회전에 연동되어 상기 관형 지지체는 자전되게 구비되고,상기 홀더를 지지하는 홀더 지지대의 회전에 연동되어 상기 관형 지지체는 일정 주기로 공전되게 구비되며,증착하려는 물질의 플럭스가 상기 관형 지지체로 고르게 도달하도록 하기 위해 상기 제1 타겟과 상기 제2 타겟은 상기 관형 지지체를 기준으로 90°＜θ＜180° 범위의 각도(θ)로 배치되어 있고,상기 관형 지지체는 상기 제1 타겟으로부터 스퍼터된 입자의 플럭스가 분포하는 영역과 상기 제2 타겟으로부터 스퍼터된 입자의 플럭스가 분포하는 영역이 중첩되는 영역 내에 위치되며,상기 제1 타겟으로부터 스퍼터된 입자의 플럭스가 분포하는 영역과 상기 제2 타겟으로부터 스퍼터된 입자의 플럭스가 분포하는 영역이 중첩되는 영역 내에서 상기 관형 지지체의 자전과 공전이 이루어지고,상기 제1 셔터와 상기 제2 셔터는 서로 독립적으로 개폐될 수 있게 구비되며,상기 제1 타겟에는 상기 제1 전원공급부를 통해 DC 전압이 인가되고,상기 제2 타겟에는 상기 제2 전원공급부를 통해 극성이 교번되는 전압인 펄스 전압이 인가되며,상기 제1 전원공급부와 상기 제2 전원공급부는 서로 독립적으로 제어될 수 있게 구비되고,상기 제1 타겟에는 금속 또는 금속 합금 물질이 장착되고,상기 제2 타겟에는 세라믹 재질의 물질이 장착되는 것을 특징으로 하는 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 홀더 지지대는 회전구동수단에 연결되어 회전되며, 상기 관형 지지체는 상기 홀더 지지대의 회전에 연동되어 1∼100sec/cycle의 속도로 공전하는 것을 특징으로 하는 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 증착챔버 내에 배치되며 상기 관형 지지체 표면으로 증착하고자 하는 제3 물질을 공급하기 위한 제3 타겟을 더 포함하는 증착장치
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제5항에 있어서, 상기 제3 타겟을 차폐하기 위한 셔터를 더 포함하며, 상기 셔터는 구동수단에 의해 개폐될 수 있게 구비되는 것을 특징으로 하는 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 증착챔버 내의 압력을 제어하기 위한 진공펌프를 더 포함하는 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 관형 지지체의 온도를 조절하기 위한 가열수단을 더 포함하며, 상기 관형 지지체 표면에 물질의 증착이 이루어지는 경우에 상기 가열수단을 이용하여 상기 관형 지지체의 온도를 300∼600℃ 범위로 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 증착장치
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제1항에 있어서, 상기 홀더는 회전구동수단에 연결되어 회전되며, 상기 관형 지지체는 상기 홀더의 회전에 연동되어 1∼100sec/cycle의 속도로 자전하는 것을 특징으로 하는 증착장치
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