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탄소나노튜브 전극 제조방법

  • 기술번호 : KST2015188921
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에어로졸 증착기술을 이용하여 유기물이 없는 탄소나노튜브 전극을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 탄소나노튜브 원료를 에어로졸화시키는 단계; 및 (b) 에어로졸화된 탄소나노튜브를 진공팽창 원리에 의해 가속하여 기판에 분사 증착시킴으로써 탄소나노튜브 박막으로 이루어진 전극을 형성하는 단계; 를 포함하는 탄소나노튜브 전극 제조방법을 제공한다. 탄소나노튜브, 전극, 캐소드, 백라이트유닛, 디스플레이
Int. CL H01J 9/02 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) C01B 31/02 (2006.01) H01J 1/304 (2006.01)
CPC H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01)
출원번호/일자 1020090035774 (2009.04.24)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1064943-0000 (2011.09.07)
공개번호/일자 10-2010-0117172 (2010.11.03) 문서열기
공고번호/일자 (20110915) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.04.24)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울특별시 동작구
2 류도형 대한민국 서울특별시 양천구
3 김창열 대한민국 서울특별시 구로구
4 조광연 대한민국 서울특별시 구로구
5 현상일 대한민국 서울특별시 도봉구
6 구은회 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조성광 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, 가산더블유센터) ****호(지본특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0248570-65
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410357-58
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2009.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0429129-99
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.02.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.03.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0018668-24
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0506954-39
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.01.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0010614-75
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2011-0010615-10
9 등록결정서
Decision to grant		 2011.07.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0395450-04
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
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번호 청구항
1 1
탄소나노튜브 원료가 저장된 에어로졸챔버; 내부에 기판이 배치되어 있으며 내부의 가스를 배기하는 배기부가 구비되어 있는 증착챔버; 일단은 상기 에어로졸챔버에 연통되어 있고 타단은 상기 증착챔버에 관입되어 있으며 상기 증착챔버측의 말단에는 분사노즐이 결합되어 있는 에어로졸수송관; 상기 에어로졸수송관의 관로 중간에 구비된 에어로졸개폐수단; 및 외부의 일반공기를 흡입하여 상기 에어로졸챔버에 공급하는 유량조절부; 를 포함하여 구성되는 펄스 에어로졸 증착장치에 의해 이루어지는 탄소나노튜브 전극 제조방법으로서, (a) 상기 에어로졸챔버 내에 상기 유량조절부에서 흡입한 외부의 일반공기를 수송가스로서 공급하여 상기 탄소나노튜브 원료를 에어로졸화시키는 단계; 및 (b) 에어로졸화된 탄소나노튜브를 진공팽창 원리에 의해 가속하여, 상기 에어로졸챔버와 연통되어 있는 증착챔버 내에 배치된 기판에 분사 증착시킴으로써 탄소나노튜브 박막으로 이루어진 전극을 형성하는 단계; 를 포함하되, 상기 (b)단계는 상기 에어로졸개폐수단으로 상기 에어로졸수송관을 간헐적으로 개폐함에 따라 상기 증착챔버의 감압을 유도하여 에어로졸화된 탄소나노튜브의 분사속도를 증가시키고, 에어로졸화된 탄소나노튜브가 증착챔버로 분사되기 전에 에어로졸챔버 내에서 다공질 가로막을 거치도록 하여 미세하게 분산된 탄소나노튜브 에어로졸 입자만이 상기 기판에 증착되도록 하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
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삭제
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삭제
5 5
제1항에서, 상기 (b)단계는 기판 위에 마스크를 배치한 후 탄소나노튜브를 분사 증착시켜 상기 탄소나노튜브 박막을 패터닝 처리하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
6 6
제1항 또는 제5항에서, 상기 (a)단계는 상기 탄소나노튜브 원료에 이형(異形)의 탄소입자가 더 포함되되, 상기 이형의 탄소입자는 나노파티클형(nanoparticle), 나노선형(Nanowire), 나노로드형(Nanorod), 나노벨트형(Nanobelt) 및 분말형으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 최소한 1종의 원료가 더 포함된 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
7 7
제1항 또는 제5항에서, 상기 (a)단계는 상기 탄소나노튜브 원료에 불순물이 도핑된 것을 적용함을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
8 8
제1항 또는 제5항에서, 상기 (a)단계는 상기 탄소나노튜브 원료가 화학적으로 표면 개질된 것을 적용함을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
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제1항 또는 제5항에서, 상기 (a)단계는 상기 탄소나노튜브 원료의 에어로졸화 전에 분쇄단계를 거치는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
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제1항 또는 제5항에서, 상기 (b)단계에 적용되는 기판은 투명전도막 또는 불투명전도막이 코팅된 것임을 특징으로 하는 탄소나노튜브 전극 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.