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세라믹 분말의 유전율 측정장치 및 이를 이용한 세라믹분말의 유전율 측정방법

  • 기술번호 : KST2015188923
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 세라믹 분말과 접하는 부분은 절연체로 이루어지고 세라믹 분말이 장입되는 몰드와, 상기 세라믹 분말을 사이에 두고 소정의 거리 이격되어 서로 마주보게 설치되고 일정 면적의 판 형상을 갖는 한 쌍의 플레이트전극과, 상기 플레이트전극에 전기적으로 연결되어 세라믹 분말의 유전율을 측정하기 위한 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저와, 세라믹 분말을 일정 압력으로 가압하여 충진시키기 위한 가압장치를 포함하며, 상기 가압장치를 이용하여 일정 충진율을 갖도록 상기 세라믹 분말을 가압하고 상기 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저로 상기 세라믹 분말의 유전율을 측정하는 세라믹 분말의 유전율 측정장치 및 이를 이용한 세라믹 분말의 유전율 측정방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 세라믹 분말에 특별한 가공처리 없이 분말 자체의 유전율을 직접 측정하여 그 특성을 평가할 수 있고, 간단하고 쉽게 세라믹 분말의 유전율을 측정할 수가 있다. 세라믹 분말, 유전율, LCR 메터, 가압장치, 플레이트전극
Int. CL G01N 27/00 (2006.01) G01R 27/26 (2006.01)
CPC G01R 27/2623(2013.01) G01R 27/2623(2013.01) G01R 27/2623(2013.01) G01R 27/2623(2013.01)
출원번호/일자 1020080020297 (2008.03.05)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-0951684-0000 (2010.03.31)
공개번호/일자 10-2009-0095148 (2009.09.09) 문서열기
공고번호/일자 (20100407) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.03.05)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형준 대한민국 충남 천안시 쌍

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고길수 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **, *층 (서초동)(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2008-0160765-96
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.06.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410356-13
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2009-0425727-99
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0040926-57
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0320784-43
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2009.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2009-0600802-21
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.10.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0634468-15
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0634552-42
11 등록결정서
Decision to grant
2010.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0092074-21
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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세라믹 분말과 접하는 부분은 절연체로 이루어지고, 세라믹 분말이 장입되는 몰드; 상기 세라믹 분말을 사이에 두고 소정의 거리 이격되어 서로 마주보게 설치되고, 일정 면적의 판 형상을 갖는 한 쌍을 이루는 상부 및 하부 플레이트전극; 상기 플레이트전극에 전기적으로 연결되어 세라믹 분말의 유전율을 측정하기 위한 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저; 세라믹 분말을 일정 압력으로 가압하여 충진시키기 위한 가압장치; 상기 하부 플레이트전극 하부의 몰드에 구비되고 상기 가압장치로부터 상기 세라믹 분말에 인가되는 압착력의 크기를 측정하기 위한 압력 센서; 상기 몰드 내부에 구비되고 상기 몰드의 온도를 조절하여 상기 세라믹 분말의 온도를 제어하기 위한 가열장치; 및 상기 세라믹 분말의 온도를 변화시켜 가면서 유전율을 측정하기 위하여 상기 가열장치에 의한 가열에 의해 변화되는 상기 세라믹 분말의 온도를 측정하는 온도계를 포함하며, 상기 가압장치를 이용하여 일정 충진율을 갖도록 상기 세라믹 분말을 가압하고 상기 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저로 상기 세라믹 분말의 유전율을 측정하는 세라믹 분말의 유전율 측정장치
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삭제
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세라믹 분말과 접하는 부분은 절연체로 이루어진 몰드에 세라믹 분말을 장입하는 단계; 일정 면적의 판 형상을 갖는 한 쌍을 이루는 상부 및 하부 플레이트전극을 상기 세라믹 분말을 사이에 두고 소정의 거리 이격되어 서로 마주보게 설치하는 단계; 가압장치를 이용하여 세라믹 분말을 일정 압력으로 가압하여 충진시키는 단계; 세라믹 분말의 유전율을 측정하기 위하여 상기 플레이트전극에 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저를 전기적으로 연결하는 단계; 및 상기 플레이트전극에 일정 전압을 인가하고, 상기 LCR 메터 또는 임피던스 아날라이저로 상기 세라믹 분말의 유전율을 측정하는 단계; 상기 하부 플레이트전극 하부의 몰드에 구비된 압력센서를 통해 상기 가압장치로부터 상기 세라믹 분말에 인가되는 압착력의 크기를 측정하는 단계; 상기 몰드 내부에 구비된 가열장치를 통해 상기 세라믹 분말의 온도를 조절하는 단계; 및 상기 가열장치에 의한 가열에 의해 변화되는 상기 세라믹 분말의 온도를 온도계를 통해 측정하는 단계를 포함하는 제1항의 세라믹 분말의 유전율 측정장치를 이용한 세라믹 분말의 유전율 측정방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.