요약 | 본 발명은 실리콘카바이드 코팅방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 그라파이트 기재를 챔버에 위치시키고 염소 가스로 세정하는 상기 그라파이트 기재 세정단계와 실리콘 리치 가스를 상기 챔버에 공급하여 상기 그라파이트 기재에 중간층을 형성하는 중간층 코팅단계 및 탄소 리치 가스를 상기 챔버에 공급하여 상기 중간층의 표면에 실리콘카바이드층을 형성하는 실리콘카바이드층 코팅단계를 포함하는 실리콘카바이드 코팅방법이 제공된다. |
---|---|
Int. CL | B32B 33/00 (2006.01) C04B 41/81 (2006.01) |
CPC | H01L 21/205(2013.01) H01L 21/205(2013.01) H01L 21/205(2013.01) H01L 21/205(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020100131779 (2010.12.21) |
출원인 | 한국세라믹기술원 |
등록번호/일자 | 10-1268033-0000 (2013.05.21) |
공개번호/일자 | 10-2012-0070282 (2012.06.29) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20130528) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2010.12.21) |
심사청구항수 | 7 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국세라믹기술원 | 대한민국 | 경상남도 진주시 소호로 *** |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 최균 | 대한민국 | 경기도 광주시 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김호종 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-*, *층 (역삼동, 신도빌딩)(태산특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국세라믹기술원 | 경상남도 진주시 소호로 *** |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2010.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0845010-25 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2012.05.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.06.25 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0051611-21 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.07.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0438739-70 |
5 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative) |
2012.08.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0618745-75 |
6 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative) |
2012.08.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0618751-49 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0787579-11 |
8 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.09.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0787638-17 |
9 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.02.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0122276-00 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.01.03 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-0000353-25 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5040685-78 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 그라파이트 기재를 챔버에 위치시키고 염소 가스로 세정하는 상기 그라파이트 기재 세정단계와 실리콘 리치 가스를 상기 챔버에 공급하여 상기 그라파이트 기재에 중간층을 형성하는 중간층 코팅단계 및 탄소 리치 가스를 상기 챔버에 공급하여 상기 중간층의 표면에 실리콘카바이드층을 형성하는 실리콘카바이드층 코팅단계를 포함하며,상기 중간층은 상기 그라파이트 기재의 표면에 존재하는 기공의 내부에서 상기 실리콘 리치 가스의 실리콘과 그라파이트가 반응하여 형성되는 실리콘카바이드와, 상기 그라파이트 기재의 표면에서 상기 실리콘 리치 가스의 실리콘과 그라파이트가 반응하여 형성되는 실리콘카바이드가 동시에 형성되어 서로 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드 코팅방법 |
2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 중간층 코팅단계에서 상기 실리콘 리치 가스는 실리콘과 탄소의 원소비가 1 |
3 |
3 제 1 항에 있어서,상기 실리콘카바이드층 코팅단계에서 상기 탄소 리치 가스는 실리콘과 탄소의 원소비가 0 |
4 |
4 제 2항 또는 제 3 항에 있어서,상기 실리콘 화합물 가스는 CH3SiC13, (CH3)2SiCl2 및 CH3SiHCl2에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드 코팅방법 |
5 |
5 제 2항 또는 제 3 항에 있어서,상기 실리콘 화합물 가스는 SiH4, SiH3Cl, SiH2Cl2, SiH1Cl3 및 SiCl4에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드 코팅방법 |
6 |
6 제 2항 또는 제 3 항에 있어서,상기 탄소 화합물 가스는 메탄(methane), 프로판(propane), 부탄(butane), 펜탄(pentane)에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드 코팅방법 |
7 |
7 제 1 항에 있어서,상기 중간층은 실리콘 리치 가스의 실리콘과 그라파이트의 반응에 의한 실리콘카바이드와, 실리콘 리치 가스의 실리콘과 탄소의 반응에 의한 실리콘카바이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘카바이드 코팅방법 |
8 |
8 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-1268033-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20101221 출원 번호 : 1020100131779 공고 연월일 : 20130528 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130222 청구범위의 항수 : 7 유별 : C04B 41/81 발명의 명칭 : 실리콘카바이드 코팅방법 존속기간(예정)만료일 : 20190522 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 159,000 원 | 2013년 05월 22일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 135,800 원 | 2016년 05월 13일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 135,800 원 | 2017년 05월 22일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 99,910 원 | 2018년 06월 05일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2010.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0845010-25 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2012.05.17 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2012.06.25 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0051611-21 |
4 | 의견제출통지서 | 2012.07.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0438739-70 |
5 | [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2012.08.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0618745-75 |
6 | [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 | 2012.08.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0618751-49 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0787579-11 |
8 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.09.27 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0787638-17 |
9 | 등록결정서 | 2013.02.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0122276-00 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.01.03 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-0000353-25 |
11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.31 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5040685-78 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1415102375 |
---|---|
세부과제번호 | kicet2009 |
연구과제명 | 한국세라믹기술원 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 지식경제부 |
연구주관기관명 | 한국세라믹기술원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200901~200912 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1415095753 |
---|---|
세부과제번호 | kicet2008 |
연구과제명 | 요업기술원 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 지식경제부 |
연구주관기관명 | 요업기술원 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200801~200812 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 |
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심판사항 정보가 없습니다 |
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