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ＣＮＴ 박막 패터닝 방법

  • 기술번호 : KST2015188952
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분산 탄소나노튜브(CNT) 에어로졸을 진공 팽창원리에 의하여 가속시키고 기판위에 고속 증착시킴으로서 기판-CNT 및 CNT-CNT간 직접적인 화학결합을 갖는 다양한 패턴의 CNT 박막을 형성시키는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 기판 위에 포토레지스트를 균일하게 도포하고 베이킹 처리하는 단계; (b) 노광공정을 통해 상기 기판 위에 패터닝 구조체를 형성시키는 단계; (c) 에어로졸화시킨 CNT를 진공팽창 원리에 의해 가속시킨 후 상기 기판 위로 분사하여 증착시키는 단계; 및 (d) 상기 기판 위의 패터닝 구조체를 제거하여 트렌치에 직접결합된 CNT 패턴물을 얻는 단계; 로 이루어지는 CNT 박막 패터닝 방법을 제공한다. 패터닝, 탄소나노튜브, 에어로졸 증착법, 리소그라피, 리프트 오프, 포토레지스트, 마스크
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020090085160 (2009.09.10)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0027182 (2011.03.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.10)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조성광 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***(가산동, 가산더블유센터) ****호(지본특허법률사무소)

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2009-0556243-31
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0275300-83
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.07.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0571866-10
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0571869-57
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0067401-52
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
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번호 청구항
1 1
(a) 기판 위에 포토레지스트를 균일하게 도포하고 베이킹 처리하는 단계; (b) 노광공정을 통해 상기 기판 위에 패터닝 구조체를 형성시키는 단계; (c) 에어로졸화시킨 CNT를 진공팽창 원리에 의해 가속시킨 후 상기 기판 위로 분사하여 증착시키는 단계; 및 (d) 상기 기판 위의 패터닝 구조체를 제거하여 트렌치에 직접결합된 CNT 패턴물을 얻는 단계; 로 이루어지는 CNT 박막 패터닝 방법
2 2
(a) 에어로졸화시킨 CNT를 진공팽창 원리에 의해 가속시킨 후 기판 위로 분사하여 증착시킴으로서 CNT 박막을 형성시키는 단계; (b) 상기 CNT 박막 위에 포토레지스트를 균일하게 도포하고 베이킹 처리하는 단계; 및 (c) 노광공정을 통해 상기 CNT 박막 위에 패터닝 구조체를 형성시키는 단계; 로 이루어지는 CNT 박막 패터닝 방법
3 3
(a) 기판 위에 마스크를 배치하는 단계; 및 (b) 에어로졸화시킨 CNT를 진공팽창 원리에 의해 가속시킨 후 상기 기판 위로 분사하여 증착시킴으로서, 마스크의 패턴에 따라 기판에 직접결합된 CNT 패턴물을 얻는 단계; 로 이루어지는 CNT 박막 패터닝 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.