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벤조산 화합물과 고굴절 나노 세라믹의 전구체 화합물을 산성 조건 하에서 50 ℃ 내지 100 ℃에서 0
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제1항에 있어서,상기 벤조산 화합물과 고굴절 나노 세라믹 전구체는 0
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제1항에 있어서,상기 코팅 단계는 함침법, 스프레이법, 또는 볼밀법으로 수행하는 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅 단계에서 실란 커플링제의 함량은 유무기 복합체 중량을 기준으로 0
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제1항에 있어서,상기 고굴절 나노 세라믹은 티타니아, 실리카, 삼산화안티몬, 산화주석, 지르코니아, 산화아연, 산화마그네슘, 알루미나, 바륨 티타네이트, 지르코늄 티타네이트, 및 스트론튬 티타네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 벤조산 화합물은 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산, 및 그의 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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7
제1항에 있어서,상기 실란커플링제는 하기의 화학식 1로 표시되는 것인 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법:[화학식1]식 중,R1, R2 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 탄소수 1 내지 5를 갖는 알킬기이며, R4는 탄소수 1 내지 18을 갖는 직쇄상 또는 분지상의 알킬기임
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제1항에 있어서, 상기 실란커플링제는 프로필트리메톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 데실트리메톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 및 옥타데실트리메톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체의 제조 방법
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9
제1항에 있어서, 벤조산 화합물과 고굴절 나노 세라믹의 전구체 화합물을 0
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10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따라 제조된 소수성이 향상된 고굴절 유무기 복합체를 포함하는 광학 하드 코팅 필름
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제10항에 있어서, 굴절율이 1
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