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임플란트에 있어서, 상기 임플란트의 표면에 형성되며, 버프 가공에 의하여 부여된 방향성을 갖는 복수의 스크래치와, 복수의 마이크로그루브와,상기 스크래치를 포함하는 임플란트의 표면에 형성되는 산화층을 포함하여 구성되며, 상기 복수의 스크래치와 마이크로그루브는 0 ~ 45도의 예각을 이루는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트
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제 1 항에 있어서, 상기 마이크로그루브는 여러 방향성을 가지는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트
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제 1 항에 있어서, 상기 산화층은 열산화 방법, 아노다이징 방법에 의해 생성된 산화층 또는 졸겔 코팅에 의한 산화물 성막 방법에 의하여 형성하는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트
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제 1 항에 있어서, 상기 스크래치의 폭은 0
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제 1 항에 있어서, 상기 스크래치 또는 스크래치와 마이크로그루브가 형성된 부분은 산화층을 형성하기 이전에 에칭처리되는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트
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임플란트의 표면에 버프 가공에 의하여 방향성을 갖는 복수의 스크래치를 형성하는 단계; 마이크로그루브를 형성하는 단계; 및상기 임플란트의 표면을 산화시키는 단계;를 포함하여 구성되며, 상기 복수의 스크래치는 마이크로그루브와 0 ~ 45도의 예각을 이루도록 버프가공되는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 임플란트의 표면을 산화시키는 단계; 이전에,상기 산화된 임플란트 표면에 포토레지스트 처리하는 단계;상기 포토레지스트 위에 패턴을 마스킹하고 노광하는 단계; 및노광된 임플란트 표면으로부터 포토레지스트를 제거하여 마이크로그루브를 형성하는 단계;를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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10
임플란트의 표면에 버프 가공에 의하여 방향성을 갖는 복수의 스크래치를 형성하는 단계;상기 스크래치가 형성된 임플란트 표면에 포토레지스트 처리하는 단계;상기 포토레지스트 위에 패턴을 마스킹하고 노광하는 단계; 노광된 임플란트 표면으로부터 포토레지스트를 제거하여 마이크로그루브를 형성하는 단계; 및상기 스크래치와 마이크로그루브가 형성된 임플란트의 표면을 산화시키는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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제 8 항 또는 제 10 항에 있어서, 상기 임플란트 표면을 산화시키는 단계는 열산화 방법 또는 졸겔 코팅 방법 또는 아노다이징(anodizing) 방법에 의하는 것임을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 스크래치 형성 후, 산화층 형성 이전에 임플란트 표면을 에칭처리하는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 스크래치 형성 후 또는 마이크로그루브 형성 후, 산화층 형성 이전에 임플란트 표면을 에칭처리하는 것을 특징으로 하는 버프 가공에 의하여 표면에 방향성 스크래치가 형성된 임플란트의 제조방법
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