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갈륨산화물 분말의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015189110
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 용매와 킬레이트제를 혼합하는 단계와, 상기 용매와 상기 킬레이트제가 혼합된 결과물을 가열하면서 교반하여 상기 킬레이트제를 용해시키는 단계와, 상기 킬레이트제가 용해되어 있는 결과물에 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질을 첨가하고 교반하여 투명한 용액을 얻는 단계와, 투명 용액의 pH를 조절하는 단계와, pH가 조절된 투명 용액을 제1 온도로 가열하여 폴리에스테르화를 진행시켜 고분자착체를 형성하는 단계와, 상기 고분자착체를 분쇄하는 단계 및 분쇄된 고분자착체를 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 열처리하여 Ga2O3 분말을 형성하는 단계를 포함하는 갈륨산화물 분말의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 합성되는 Ga2O3 분말의 균일성이 우수하고, 합성 온도가 낮으며, 합성되는 분말의 입도가 작고, 제조 공정 중에 pH를 조절함으로써 합성되는 Ga2O3 분말의 입자 크기를 조절할 수 있다.
Int. CL B01J 6/00 (2006.01) C01G 15/00 (2006.01) C22B 58/00 (2006.01)
CPC C01G 15/00(2013.01) C01G 15/00(2013.01) C01G 15/00(2013.01) C01G 15/00(2013.01)
출원번호/일자 1020120055301 (2012.05.24)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1375602-0000 (2014.03.12)
공개번호/일자 10-2013-0131619 (2013.12.04) 문서열기
공고번호/일자 (20140318) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.05.24)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조우석 대한민국 서울 광진구
2 정종열 대한민국 경남 진주시
3 이원준 대한민국 전남 강진군
4 김진호 대한민국 서울 강동구
5 김응수 대한민국 경기 용인시 수지구
6 황광택 대한민국 서울 강동구
7 김경자 대한민국 경기 군포시 광정로 ***, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고길수 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **, *층 (서초동)(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2012-0416342-07
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0047537-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0670077-74
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0893739-63
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-0893745-37
7 등록결정서
Decision to grant
2013.12.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0877769-04
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
용매와 킬레이트제를 혼합하는 단계;상기 용매와 상기 킬레이트제가 혼합된 결과물을 가열하면서 교반하여 상기 킬레이트제를 용해시키는 단계;상기 킬레이트제가 용해되어 있는 결과물에 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질을 첨가하고 교반하여 투명 용액을 얻는 단계;상기 투명 용액의 pH를 조절하는 단계;pH가 조절된 투명 용액을 제1 온도로 가열하여 폴리에스테르화를 진행시켜 고분자착체를 형성하는 단계;상기 고분자착체를 분쇄하는 단계; 및분쇄된 고분자착체를 상기 제1 온도보다 높은 제2 온도로 열처리하여 Ga2O3 분말을 형성하는 단계를 포함하며,상기 용매와 상기 킬레이트제는 3:1∼7:1의 몰비로 혼합하는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 킬레이트제와 상기 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질이 1:0
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질은 갈륨나이트레이트(Ga(NO3)3)인 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 킬레이트제로 구연산(C6H8O7) 및 에틸렌디아민테트라아세트산(C10H16N2O8) 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 용매로 에틸렌글리콜(C2H6O2) 및 물 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 pH의 조절은 상기 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질과 염을 형성하지 않는 질산(HNO3) 또는 염산(HCl)을 사용하며, 상기 pH는 0∼6 범위로 조절되는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 pH의 조절은 상기 갈륨(Ga) 성분을 포함하는 금속이온물질과 염을 형성하지 않는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 또는 테트라에틸암모늄 하이드록사이드를 사용하며, 상기 pH는 9∼14 범위로 조절되는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 폴리에스테르화를 진행시키기 위하여 상기 제1 온도로 가열하는 것은 250∼350℃ 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 열처리는 상기 제1 온도보다 높은 450∼650℃의 제2 온도에서 산화 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 갈륨산화물 분말의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.