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금속층을 포함한 3상 형성이 가능한 하이브리드 코팅 장치

  • 기술번호 : KST2015189162
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 하나의 장치 내에서 다층의 코팅막을 형성할 수 있으며, 특히 금속 고유막을 형성할 수 있는 하이브리드 코팅 장치에 대하여 개시한다. 본 발명의 실시예에 따른 하이브리드 코팅 장치는 내부에 밀폐공간 또는 진공공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 상측 또는 하측의 중앙 영역에 수직축을 기준으로 회전 가능하게 장착되며, 코팅막이 형성될 기판을 고정하는 지지대; 상기 챔버 측면에 형성되어, 각각 정해진 유효 각도로 기상의 코팅물질을 제공하는 복수의 코팅 소스;를 포함하여, 상기 지지대가 회전하면서 상기 기판에 다층의 코팅막이 형성되도록 하되, 상기 지지대의 중심을 기준으로, 하나의 코팅 소스와 다른 하나의 코팅 소스가 함께 제공되는 중첩 범위가 5~35°인 것을 특징으로 한다.
Int. CL C23C 14/22 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01) C23C 28/32(2013.01)
출원번호/일자 1020120143466 (2012.12.11)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1449602-0000 (2014.10.02)
공개번호/일자 10-2014-0075272 (2014.06.19) 문서열기
공고번호/일자 (20141008) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.11)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오윤석 대한민국 서울 강동구
2 양영환 대한민국 서울 강서구
3 김성원 대한민국 서울 강동구
4 이성민 대한민국 경기 광주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-1028155-43
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0085011-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0422273-56
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.07.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0622080-30
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-0622079-94
8 등록결정서
Decision to grant
2014.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0596244-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
내부에 밀폐공간 또는 진공공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 상측 또는 하측의 중앙 영역에 수직축을 기준으로 회전 가능하게 장착되며, 코팅막이 형성될 기판을 고정하는 지지대;상기 챔버 측면에 형성되어, 각각 정해진 유효 각도로 기상의 코팅물질을 제공하는 복수의 코팅 소스;를 포함하여,상기 지지대가 회전하면서 상기 기판에 금속층을 포함한 다층의 코팅막이 형성되도록 하되,상기 지지대의 중심을 기준으로, 하나의 코팅 소스와 다른 하나의 코팅 소스가 함께 제공되는 중첩 범위가 5~35°이고,상기 금속층의 두께가 10nm~1㎛ 두께가 되도록, 코팅 소스들의 중첩 범위 및 상기 지지대의 회전 속도가 조절되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 지지대의 회전 속도는2~15rpm인 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 하이브리드 코팅 장치는상기 복수의 코팅 소스 각각의 유효 각도 내에 국부적으로 반응가스 또는 캐리어 가스를 제공하는 복수의 가스 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 복수의 가스 공급부 각각은 상기 복수의 코팅 소스 각각에 인접하여 형성되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 기판 상에 형성되는 각각의 층의 두께가 10nm~1㎛ 두께가 되도록, 코팅 소스들의 중첩 범위 및 상기 지지대의 회전 속도가 조절되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
7 7
제1항에 있어서,상기 기판이 금속 재질인 경우, 상기 기판 상에 금속층이 가장 먼저 형성되도록 상기 복수의 코팅 소스들 각각의 제공 순서가 조절되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 복수의 코팅 소스는스퍼터링 소스, 전자빔 증착 소스, AIP(Arc Ion Plating) 소스, 열증착 소스, 펄스 레이저 증착 소스, 레이저 분자빔 증착 소스 및 CVD(Chemical Vapor Deosition) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
9 9
제1항에 있어서, 상기 복수의 코팅 소스 중 적어도 2개는 기상의 서로 다른 물질을 제공하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 코팅 장치
10 10
제1항 내지 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 기재된 장치에서 기판 상에 형성되되, 제1금속 - 제2금속 - A (A는 산소, 질소, 불소 중에서 선택됨) 화합물로 형성되는 제1층과, 제1금속 - A 화합물로 형성되는 제2층과, 상기 제2금속으로 형성되는 제3층을 포함하고, 아래로부터 제1층, 제2층 및 제3층을 포함하는 단위 코팅막이 1회 이상 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 코팅막
11 11
제10항에 있어서, 상기 기판은 금속이고, 상기 제3층이 상기 기판에 직접 접촉하는 것을 특징으로 하는 다층 코팅막
12 12
제10항에 있어서,상기 제3층은 10nm~1㎛ 두께로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 코팅막
13 13
제10항에 있어서,상기 제1층, 제2층 및 제3층 각각은 10nm~1㎛ 두께로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 코팅막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.