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(a) 적외선 투과성을 가진 렌즈 기재부를 마련하는 단계;(b) 상기 렌즈 기재부가 적어도 한 면에 비구면 및 회절면 중 하나 이상을 갖도록 상기 렌즈 기재부의 표면을 가공하는 단계; 및(c) 상기 렌즈 기재부의 가공된 표면 상에 황화아연(Zinc sulfide, ZnS) 또는 셀렌화아연(Zinc selenide, ZnSe) 적외선 반사방지층을 형성하는 단계;를 포함하여,상기 (C) 단계에서, 상기 적외선 반사방지층의 표면이 상기 렌즈 기재부의 표면에 대응하는 비구면 또는 회절면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서, 상기 렌즈 기재부는 실리콘(silicon, Si), 게르마늄(Germanium, Ge), 사파이어(Sapphire), 플루오르화 칼슘(Calcium fluoride), 플루오르화 바륨(Barium fluoride), 플루오르화 마그네슘(Magnesium fluoride), 삼황화비소(Arsenic trisulfide) 또는 AMTIR-1(Ge33As12Se55 Glass) 재질인 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 렌즈 기재부의 표면이 반도체 식각 공정 또는 마이크로머시닝(micromachining) 공정으로 가공되는 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (C) 단계는 스퍼터링법(sputtering), 진공 증착법(vacuum deposition), 이온 도금법(ion plating) 및 화학기상증착(chemical vapor deposition, CVD)법 중 어느 하나의 방법으로 실시되는 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (C) 단계에서, 상기 적외선 반사방지층이 투과시키려는 적외선 파장의 1/3~1/5의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈 제조 방법
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적외선 투과성을 가지며, 표면 가공 되어 적어도 한 면에 비구면 및 회절면 중 하나 이상이 형성된 렌즈 기재부; 및상기 렌즈 기재부의 가공된 표면 상에 형성된 황화아연 또는 셀렌화아연 적외선 반사방지층;을 포함하여,상기 적외선 반사방지층의 표면이 상기 렌즈 기재부의 가공된 표면에 대응하는 비구면 또는 회절면을 갖는 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈
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제7항에 있어서,상기 렌즈 기재부는 실리콘, 게르마늄, 사파이어, 플루오르화 칼슘, 플루오르화 바륨, 플루오르화 마그네슘, 삼황화비소 또는 AMTIR-1 재질인 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈
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제7항에 있어서, 상기 적외선 반사방지층은 투과시키려는 적외선 파장의 1/3~1/5의 두께인 것을 특징으로 하는 적외선 반사 방지 효과가 우수한 적외선 렌즈
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