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세라믹 분말과 분산액이 수용되는 처리 용기;초음파를 발생시켜 상기 세리믹 분말을 분산 및 세척하는 봉 형태의 초음파 인가부; 및메쉬 전극을 포함하여 플라즈마를 발생시켜, 세라믹 분말을 분쇄하는 플라즈마 인가부;를 포함하고,상기 봉 형태의 초음파 인가부는 회전하면서 분산액을 회전시키며, 처리 용기 상부에 배치되는 지그에 장착되고, 상기 초음파 인가부 및 플라즈마 인가부는 상기 분산액 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치
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제1항에 있어서,상기 초음파의 주파수 범위는 10㎑ 이상인 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 인가부는 양전극 및 음전극 중 1종 이상의 메쉬 전극을 포함하고,상기 메쉬 크기는 400 ~ 600 메쉬인 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치
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제1항에 있어서,상기 메쉬 전극은 전류밀도가 균일한 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치
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제1항에 있어서,상기 처리 용기는, 상기 초음파 인가부 및 상기 플라즈마 인가부의 작동을 각각 제어하는, 전원 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 장치
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상기 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 기재된 세라믹 분쇄 및 분산장치를 이용한, 세라믹을 분쇄 및 분산하는 방법에 있어서,(a) 세라믹 분말이 분산된 분산액이 수용된 처리 용기에, 초음파를 발생시켜상기 세라믹 분말을 세척 및 분산하는 단계; 및(b) 메쉬 전극을 포함하는 플라즈마 인가부에 전압을 공급하여, 방전에 의한플라즈마를 발생시켜 세라믹 분말을 분쇄하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 방법
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제6항에 있어서,상기 (a) 단계는 분산액과 세라믹 분말의 혼합비가 부피비로 1:0
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제6항에 있어서,상기 (a) 및 (b) 단계는 상기 초음파 봉 및 상기 플라즈마 발생부의 작동을 각각 제어하는, 전원 공급부에 의해 작동되는 것을 특징으로 하는 초음파와 플라즈마를 이용한 세라믹 분쇄 및 분산 방법
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