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그래핀 산화물 용액을 기재에 코팅하고 건조시킨 후에 열처리를 하여 기재의 표면에 그래핀 박막을 형성시키는 그래핀 산화물의 코팅방법으로서,
상기 그래핀 산화물 용액에 바인더, 분산제 및 습윤제를 첨가하여 상기 기재에 코팅하고,
상기 열처리는 100~300℃에서의 장기간 열처리 방식, 300~ 400℃에서의 중기간 열처리 방식 및 400~600℃에서의 단기간 열처리 방식 가운데 어느 한가지 방식이 선택되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항에서,
상기 그래핀 산화물 용액에 나노분말, 나노섬유, 나노선, 탄소나노튜브, TiO2나노튜브, 흑연나노분말, 탄소섬유, SiC섬유 중 어느 하나 이상을 더 첨가한 후 기재에 코팅하는 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항에서,
상기 바인더는 열경화성수지, 광경화성 수지, 열가소성 수지, 가수분해하여 축합반응을 일으키는 실란화합물, 열가소성 수지, 전도성고분자, 폴리 파라-페닐렌비닐렌(poly para-phenylenevinylene, PPV), 폴리 파라-페닌렌비닐렌-CO-2,5-디옥토시-메타-페닐렌비닐렌(Poly para-phenlyenevinylene-co-2,5-dioctoxy-m-phenylenevinylene, PMPV)와 폴리 파라-페닐렌비닐렌(poly para-phenylenevinylene, PPV)의 공중합체(copolymer), PPE (poly aryleneethylene), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리메타메틸크릴레이트(PMMA), 폴리 히드록시 아미노 에테르(PHAE, Poly hydroxy amino ethers)와 폴리 플루오린-디옥탄(poly fluorine-dioctane), 폴리페닐아세틸렌(PPA, Polyphenylacetylene), 디엔에이(DNA), 알엔에이(RNA), 단백질, 폴리카보 실란(polycarbo silane)류, 폴리-테트라-부틸아크릴레이트(poly t-butyl acrylaate), 나일론 6중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
상기 그래핀 산화물 용액은 탄소층간화합물(ICC)에 에너지를 조사하여 그래핀 전구체(pre- GP)를 제조한 후 이를 다시 화학적으로 산화시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제6항에서,
상기 화학적 산화에 사용되는 산화제는 HNO3, H2SO4, H3PO4, H4P2O7, H3AsO4, HF, H2SeO4, HClO4, CF3COOH, BF3(CH3COOH)2, HSO3F, HSIO6, KMnO4, NaNO3, KClO3, NaClO3, NH4ClO3, AgClO3, HClO3
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
상기 코팅은 딥코팅, 스핀코팅, 스크린 코팅, 옵셋인쇄, 잉크젯 프린팅
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
상기 기재는 판 형태로 형성된 것으로서 유리, 수정, 글래스웨이퍼, 실리콘웨이퍼, 탄소기판, 탄소펠트, 사파이어, 질화실리콘, 화합물 반도체, GaAs 기판, GaInP 기판, 탄화실리콘, 티타늄 코팅기판, 세라믹, 금속합금, 플라스틱, SAM(Self-assembled monolayer)막, 양극산화기판, 섬유강화 투명 플라스틱, 단결정 실리, 폴리크리스탈린 실리콘, 마이크로 크리스탈린 실리콘, 박막 실리콘, CdTe 기판, 양자점 태양전지, GaP 기판, SiGe 기판, Si 기판, Ge 기판, InGaAsN 기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
상기 기재는 섬유, 극세사, 입자형 3차원 모재, 다공체, 나노튜브상 소재, 나노선, 나노선 박막의류, 스폰지형, 구멍내외부, 홈 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
상기 기재가 금속판 또는 합금판인 경우에 상기 기재의 표면을 물리적 처리, 화학적 처리, 열적 처리 중 어느 하나의 방법으로 기재의 표면에 존재하던 불순물을 코팅 전에 미리 제거시키는 전처리 공정이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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제1항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에서,
그래핀 산화물 용액의 용매는 물, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 에틸렌 글리콜, 폴리 에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드, 메틸렌클로라이드, 디에틸렌 글리콜 메틸 에틸 에테르(diehthylene glycol methyl ethyl ether), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 혼합용매로서 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 탄소나노판 복합체, 공용매, 아마이드 계열의 N,N-디메틸포름아마이드(N,N-dimethylformamide, DMF), N-메틸피롤리돈(N-methylpyrrolidone,NMP), 수산화암모늄 염산(NH2OH)(HCl)수용액, 알파-테피놀(Terpinol),클로로포름(chloroform), 메틸에틸키톤(methyl ethyl ketone), 포름산(formic acid), 니트로에탄 (nitroethane)BBB, 2-에톡시 에탄올(2-ethoxy ethanol), 2-methoxy ethanol, 2-부톡시 에탄올(2-butoxy ethanol), 2-메톡시 프로판올 (2-methoxy propanol), 에틸렌 글리콜, 아세톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프BBB로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라하이드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 사이클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나 프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드, 메틸렌클로라, 2-메톡시 에탄올(2-methoxy ethanol), 감마-부티로락톤(γ-Butyrolactone, GBL), 벤질 벤조에이트(Benzyl Benzoate), 1-메틸-2-피롤리디논(1-Methyl-2-pyrrolidinone, NMP), N,N-Dimethylacetamide (DMA), 1,3-Dimethyl-2-Imidazolidinone (DMEU), 1-Vinyl-2-pyrrolidone (NVP), 1-Dodecyl-2-pyrrolidinone (N12P), N,N-Dimethylformamide (DMF), Dimethyl sulfoxide (DMSO), Isopropoanol (IPA), 1-Octyl-2-pyrrolidone (N8P)) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그래핀 산화물의 코팅방법
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