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나노구조 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015189297
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따라서, 기판을 준비하는 단계와; 이원(binary) 조성의 나노와이어를 상기 기판에 성장시키는 단계와; 상기 기판 상에 성장시킨 나노와이어에 소정 물질을 증착하여, 코어/쉘 구조의 나노와이어를 형성하는 단계와; 상기 코어/쉘 구조의 나노와이어를 열처리하여, 상기 쉘을 구성하는 물질의 산화물로 구성되는 튜브 형태의 나노구조를 형성하거나, 상기 쉘을 구성하는 물질과 상기 코어 물질이 상호 확산하여 고용된 삼원(tertiary) 조성의 나노와이어 형태의 나노구조를 형성하거나, 상기 코어를 구성하는 두 원소 중 한 원소와 상기 쉘을 구성하는 물질의 원소가 상호 반응하여, 그 두 원소로 구성되는 나노와이어와 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 나머지 한 원소가 상분리되어 상기 나노와이어 표면에 부분적으로 석출된 결정을 포함하는 나노구조를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법이 제공된다.
Int. CL B82B 1/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC B82B 3/00(2013.01) B82B 3/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130166939 (2013.12.30)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1523947-0000 (2015.05.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150529) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.30)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김병근 대한민국 서울 금천구
2 이홍림 대한민국 서울 영등포구
3 정성민 대한민국 경기 광명시 하안로 ***,
4 서원선 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김승욱 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소)
2 이채형 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-1204089-46
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0004664-65
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0004659-36
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0080212-66
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0897707-87
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0189425-32
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0307405-65
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0307424-22
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
11 등록결정서
Decision to grant
2015.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0335833-30
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 준비하는 단계와;이원(binary) 조성의 나노와이어를 상기 기판에 성장시키는 단계와;상기 기판 상에 성장시킨 나노와이어에 소정 물질을 증착하여, 코어/쉘 구조의 나노와이어를 형성하는 단계와;상기 코어/쉘 구조의 나노와이어를 열처리하여, 상기 쉘을 구성하는 물질의 산화물로 구성되는 튜브 형태의 나노구조를 형성하거나, 상기 쉘을 구성하는 물질과 상기 코어 물질이 상호 확산하여 고용된 삼원(tertiary) 조성의 나노와이어 형태의 나노구조를 형성하거나, 상기 코어를 구성하는 두 원소 중 한 원소와 상기 쉘을 구성하는 물질의 원소가 상호 반응하여, 그 두 원소로 구성되는 나노와이어와 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 나머지 한 원소가 상분리되어 상기 나노와이어 표면에 부분적으로 석출된 결정을 포함하는 나노구조를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 쉘을 형성하는 물질로서, 상기 코어를 구성하는 물질보다 녹는점이 높고 상기 열처리에 의해 산화물을 형성하는 제1 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 열처리는 상기 코어를 구성하는 물질이 녹는 온도보다 높은 온도에서 수행하고, 이에 따라 상기 코어를 구성하는 물질이 상기 코어/쉘 나노와이어의 끝 부분을 통해 외부로 휘발되어, 상기 제1 물질의 산화물로 이루어지는 상기 튜브 형태의 나노 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
4 4
청구항 3에 있어서, 상기 제1 물질로서, Si 또는 Al을 증착하고, 상기 열처리에 의해 비정질의 Si1-xOx 나노튜브 또는 다결정의 Al1-xOx 나노튜브가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 쉘을 구성하는 물질로서, 상기 코어를 구성하는 물질과 비교하여 비슷한 융점을 갖고 또 상기 열처리에 따라 산화되지 않는 제2 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 열처리는 상기 코어를 구성하는 물질과 상기 제2 물질이 상호 확산하여 고용체를 형성할 수 있는 온도에서 수행하여, 상기 코어를 구성하는 물질과 상기 제2 물질로 구성되는 상기 3원 조성의 나노와이어 형태의 나노구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
7 7
청구항 6에 있어서, 상기 코어 물질로서 Sb2Te3를 이용하고, 상기 제2 물질로서 Bi2Te3를 이용하며, 상기 열처리에 의해, Bi-Sb-Te 단결정 나노와이어가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
8 8
청구항 1에 있어서, 상기 쉘을 구성하는 물질로서 상기 열처리에 따라 산화되지 않으며, 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 한 원소와 온도에 따라 반응하는 제3 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
9 9
청구항 8에 있어서, 상기 열처리는 상기 제3 물질이 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 한 원소와 반응하는 온도 이상에서 수행하여 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 한 원소와 상기 제3 물질이 상호 반응하도록 함으로써, 그 두 원소로 구성되는 단결정 나노와이어가 형성되고, 상기 코어를 구성하는 물질의 두 원소 중 나머지 한 원소는 상분리되어, 상기 단결정 나노와이어 표면에 결정 형태로 석출되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
10 10
청구항 9에 있어서, 상기 코어 물질로서 Sb2Te3를 이용하고, 상기 제3 물질로서 Pt를 이용하며, 상기 열처리에 의해 단결정 PtTe 나노와이어가 형성되고, 그 표면에 Sb가 결정 형태로 석출되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
11 11
기판을 준비하는 단계와;단일 조성의 나노와이어를 상기 기판에 성장시키는 단계와;상기 기판 상에 성장시킨 나노와이어에 소정 물질을 증착하여, 코어/쉘 구조의 나노와이어를 형성하는 단계와;상기 코어/쉘 구조의 나노와이어를 열처리하여, 상기 쉘을 구성하는 물질의 산화물로 구성되는 튜브 형태의 나노구조를 형성하거나, 상기 코어를 구성하는 물질과 상기 쉘을 구성하는 물질이 상호 반응하여, 그 두 원소로 구성되는 나노와이어 형태의 나노구조를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
12 12
청구항 11에 있어서, 상기 쉘을 형성하는 물질로서, 상기 코어를 구성하는 물질보다 녹는점이 높고 상기 열처리에 의해 산화물을 형성하는 제1 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
13 13
청구항 12에 있어서, 상기 열처리는 상기 코어를 구성하는 물질이 녹는 온도보다 높은 온도에서 수행하고, 이에 따라 상기 코어를 구성하는 물질이 상기 코어/쉘 나노와이어의 끝 부분을 통해 외부로 휘발되어, 상기 제1 물질의 산화물로 이루어지는 상기 튜브 형태의 나노 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
14 14
청구항 13에 있어서, 상기 제1 물질로서, Si 또는 Al을 증착하고, 상기 열처리에 의해 비정질의 Si1-xOx 나노튜브 또는 다결정의 Al1-xOx 나노튜브가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
15 15
청구항 11에 있어서, 상기 쉘을 구성하는 물질로서 상기 열처리에 따라 산화되지 않으며, 상기 코어를 구성하는 물질과 온도에 따라 반응하는 제2 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
16 16
청구항 15에 있어서, 상기 열처리는 상기 제2 물질이 상기 코어를 구성하는 물질과 반응하는 온도 이상에서 수행하여, 상기 코어를 구성하는 물질과 상기 제2 물질이 상호 반응하도록 함으로써, 그 두 원소로 구성되는 단결정 나노와이어가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
17 17
청구항 16에 있어서, 상기 코어를 구성하는 물질로서 Te를 이용하고, 상기 제2 물질로서 Pt를 이용하며, 상기 열처리에 의해 단결정 PtTe 나노와이어가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.