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유전체 세라믹스 후막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015189336
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에서는 유전체 세라믹스 후막 및 그 제조방법이 개시된다. 이를 위한 유전체 세라믹스 후막은 AgNbO3 조성 및 AgTaO3 조성 중에서 선택된 하나 또는 둘의 혼합을 포함한다. 또한, 상기 유전체 세라믹스 후막의 제조방법은 AgNbO3 조성 및 AgTaO3 조성의 각 세라믹 분말을 준비하는 단계와, 상기 두 세라믹 분말들 중에서 선택된 하나의 단독분말 또는 둘의 혼합분말을 에어로졸화하고 이를 소정의 기판상에 분사하여 유전체 세라믹스 후막을 제조하는 단계를 포함한다.유전체세라믹스후막, 내장형캐패시터, 에어로졸증착
Int. CL H01B 3/12 (2006.01) H01G 4/018 (2006.01) C04B 35/00 (2006.01)
CPC H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01)
출원번호/일자 1020090059343 (2009.06.30)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1158532-0000 (2012.06.14)
공개번호/일자 10-2011-0001688 (2011.01.06) 문서열기
공고번호/일자 (20120621) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.30)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김효태 대한민국 경기도 안양시 만안구
2 윤영준 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김종희 대한민국 서울특별시 송파구
4 김지훈 대한민국 서울특별시 서초구
5 이은혜 대한민국 경기도 부천시 원미구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이두희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***(역삼동) 한신인터밸리** 빌딩 서관 ****호(이훈국제특허법률사무소)
2 이훈 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 한신인터밸리 서관 ****호 이훈국제특허법률사무소 (역삼동)
3 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2009-0400240-36
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2009.07.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0410357-58
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0056969-42
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0319268-29
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0485583-54
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.08.10 수리 (Accepted) 1-1-2011-0617827-18
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0713754-03
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0713817-81
10 등록결정서
Decision to grant
2012.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0159444-95
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
조성식 Ag(Ta, Nb)O3의 유전체 세라믹스 후막을 형성하는 방법에 있어서,AgNbO3 조성의 제1세라믹분말 및 AgTaO3 조성의 제2세라믹분말을 각각 준비하고 상기 준비된 제1세라믹분말 및 제2세라믹분말을 혼합하여 혼합분말을 준비하는 단계와;상기 혼합분말을 에어로졸화하고 이 에어로졸을 소정의 기판상에 이송가스로 분사함으로써 충격에 의해 고화시켜 상기 조성식의 유전체 세라믹스 후막을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1세라믹분말 및 제2세라믹분말의 혼합 비율을 조절하여 상기 유전체 세라믹스 후막의 유전손실 및 정전용량 중의 하나 이상의 온도계수(TCC)를 조정하는 것을 특징으로 하는 방법
3 3
삭제
4 4
제2항에 있어서,상기 형성된 유전체 세라믹스 후막은 25℃ 내지 300℃의 범위로 열처리되는 것을 특징으로 하는 방법
5 5
삭제
6 6
제2항에 있어서,상기 준비된 제1세라믹분말 및 제2세라믹분말은 상기 혼합 이전에 대기 또는 산소 분위기에서 열처리되는 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제2항에 있어서,상기 이송가스는 헬륨 및 산소를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
8 8
제7항에 있어서,상기 이송가스의 총량은 3000sccm 내지 4000scm으로 되는 것을 특징으로 하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.